以常压热化学气相沉积法由乙炔成长奈米碳管之研究-建国科技大学.doc

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以常压热化学气相沉积法由乙炔成长奈米碳管之研究-建国科技大学.doc

類鑽碳/矽異質接面二極體之研製 黃勝斌1 洪昌佑2 1建國科技大學電機工程系副教授 E-mail: sbhwa@ctu.edu.tw 2建國科技大學電機工程研究所 研究生 摘 要 本文利用甲烷在電子迴旋共振化學氣相沈積(ECR-CVD)鑽碳(Diamond-like Carbon, DLC)膜,使用拉曼光譜儀分析薄膜鑽碳膜鑽碳膜關鍵詞:Abstract Diamond-like carbon (DLC) films were prepared by ECR-plasma decomposition of methane in this study. The films have been characterized by Raman spectroscopy. Electrical conduction of Al/DLC/silicon/Al heterostructures has also been investigated. The thickness of the DLC films is about 200nm. It is shown that both DLC/p-Si and DLC/n-Si systems show rectifying properties by the current-voltage characteristics of devices. We also report the influence of substrate RF-bias power and temperature on the diode’s characteristics. By taking the DLC to be an N- semiconductor, it is possible to treat the diode characteristics as arising from the presence of a DLC/Si heterojunction. Key Words: Diamond-like carbon (DLC), heterojunction, ECR-CVD 1. 前言 DLC具有類似鑽石的優異性質,如:高硬度良好的熱傳導性對酸、鹼、熱有很好的抵抗能力,以及高崩潰電場,卻免除鑽石高溫、高壓製備的缺點,由於其非晶質的結構其表面平整度可達奈米級範圍,使其在相對運動下避免對磨材磨損;再者類鑽碳膜可在低溫下利用物理和化學蒸鍍法製作,因此可被覆於塑膠和鋁等對溫度敏感的基板上,使其應用範圍大幅提升;而且類鑽碳膜可經由加入適量的硼或磷來調整其性質,製程控制上更為方便。 在研究鑽石薄膜之前,我們必須以拉曼光譜先對鑽石與石墨有所了解天然石墨單晶在1580cm-1 處有一個拉曼峰值,我們稱之為”G”-peak,此震盪模式與碳原子sp2 鍵結相關。對於多晶石墨(polycrystalline graphite)而言,由於晶格大小的改變與影響,使得在1357 cm-1 處,會產生第二個峰值,稱之為無序峰,或稱為”D”-peak(disorder)[3]。本實驗進行拉曼散射的實驗,當晶格材料的有序性被破壞時,由於鍵結角度的扭曲使得”D”-peak 位移至較低的波數(wavenumber)[4-5],且”G”-band 的位置往低頻遷移,而且中心位置低1580cm-1[6],Beeman 等人[7-8]在進行類鑽碳膜的拉曼光譜研究時發現,類鑽碳中sp3 鍵結的原子位置增多時,會使得”G”-band 往低頻的方向移動,當Richter 等人對”G”-band 作理論計算後,為”G”-band 頻譜的位移,是由於sp3 鍵結比例的變化,而造成了離子間力常數的改變[7],但是當我們在討論DLC 的拉曼光譜時,較少討論”D”-band,因為”D”-band 附近有太多的含碳物質出,所以分析其所疊合的譜線頗為不易,一般僅將”D”-band 與”G”-band的強度作比較(即ID/IG),由文獻中我們知道ID/IG 的比值與有效晶格成反比[8], 當拉曼光譜的ID/IG 逐漸變小時,這代表著有缺陷的晶格逐漸減少。 類鑽碳擁有SP3以及SP2結構,電子的傳輸機制主要來自SP2結構,SP2結構有許多懸浮鍵或氫原子摻雜等缺陷,電子經由熱活化傳導沿著膜中的缺陷跳躍傳輸。而薄膜經由摻雜以及加熱使膜中SP2結構中缺陷增加電子傳導路徑也跟著增加[9]。 本研究選擇使用電子迴旋共振化學氣相沉系統(electron cyclotron resonance chemical vapor deposition,ECR-CVD)類鑽碳膜通入反應氣體甲烷(CH4),並改變偏壓(RF)及成長溫度(T)方式成長類鑽碳膜。類鑽與矽異接面二

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