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原子层沉积–适用于锂离子电池的应用技术
Atomic Layer Deposition
应用于锂离子电池的原子层沉积技术
白皮书
原子层沉积– 适用于锂离子电池的应用技术
原子层沉积(ALD)正在从用于电池研发的技术工具转变成 原子层沉积(ALD)是一种有效的，经过实践证明的镀膜方
为可用于多种产品生产的工业化设备。倍耐克公司的ALD 法，可以用于多种电池结构和材料层，其中包括：
设备和技术处于这项研究的前沿领域，我们很高兴能够 ? 将微米或纳米级别的颗粒固定到基底表面(3)
在这一不断发展的高科技领域为客户服务。 ? 为金属表面涂敷扩散阻隔层和防腐层(4)
? 控制颗粒表面的扩散特性(5)
? 表面钝化(6)
1. 用于电池的原子层沉积(ALD)应用 ? 调整多孔材料的结构(7)
最近ALD技术已被成功地应用到了锂离子电池所需要的材
料制备中。ALD技术在3D集成电池中非活跃层的氮化钛 由于其自下而上的薄膜成长机理，绝大多数ALD镀膜是无
(TiN)扩散阻隔层和铂(Pt)阴极材料的制备方面已经完成 针孔的。这种特性特别适合于阻隔层和钝化应用。从图
了开发，见图1 (1)。 原子层沉积(ALD)技术使产品的 2(8)可以看到，当薄膜厚度刚刚达到10nm时，阻隔效果
相关性能得到了显著的提高，尤其是在具有复杂结构的 就已经得到了很大的改善。
物体上进行高保型性镀膜的应用。另外，含锂的材料也
已经通过ALD技术沉积出来，这打消了人们对于ALD技术
可行性的担忧 (2) 。
图2 水蒸气透过率与Al O ALD薄膜厚度的关系。薄膜是
2 3
在120 °C下沉积于聚邻苯二甲酸酯(PEN)上。. (8)
2. 将原子层沉积应用于粉末和颗粒
ALD技术将高保形的镀膜与微粒型的基底相结合，从而为
改变电池材料的扩散特性提供了全新的机会，更重要的
是电池的寿命和性能稳定性得到了提高。倍耐克公司与
微粒型ALD领域领先的ALD NanoSolutions,Inc.结成了战
图1. 集成在硅基底上的3D电池的结构图。横截面显示的是 略伙伴关系。图3显示经过ALD镀膜的阴极颗粒对锂离子
电池槽中的各种功能层和所选用的材料。(1) 电池性能的改善。
合作方:
应用于锂离子电池的原子层沉积技术
100 4. ALD设备
) 倍耐克公司是为科研和工业化生
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