PECVD镀膜（单晶、多晶）作业指导书.doc

PECVD镀膜（单晶、多晶）作业指导书 公司名称 版本 文件编号修订 文件类型工作文件 撰写人第五组 第页 1 目的贯彻“各尽所能，按劳分配”的原则，正确地处理集体及职工之间的利益关系参与产品的质量分析及重大质量、设备事故的分析、处理；协助有关部门返修产品的鉴定，修复方案的审定，信息反馈工作做好车间的检查与监管工作?根据工艺流程设计设备方案?负责设备的采购、监督制造，协助设备的安装、调试及安全投入使用负责制定设备的点检维修制度，管理库存备件，及时组织维修损坏设备，保障设备的正常运转、安全使用对操作员的技术培训工艺技术要求 图1-8 镀膜异常情况图 7.8.4检查硅片背面是否存在由于沉积时局部短路而镀上的氮化硅膜，对于硅片背面沉积上少量氮化硅膜的硅片（面积小于100mm2），按正常硅片往下流，若背面沉积面积超标则需隔离，待重洗后返工生产。 8 工艺卫生要求： 8.1 凡是对硅片操作，严禁空手直接接触硅片，使用乳胶指套时，注意乳胶指套属于一次性使用。 8.2 由二次清洗工序流入的片子，须及时装入石墨框进行镀膜；未能及时镀膜的片子， 需置入氮气柜中以防止氧化。石墨框管理 石墨框 工序长应及时了解石墨框使用状况，如发现因石墨框清洗不及时导致片子色差明显， 需及时报告设备相关人员对其进行清洗。传递窗严格禁止对开，取片或送片完成后须立刻关闭传递窗。 ）