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(3)位移的表示方法 ③芳环的磁各向异性 芳香族化合物的环形π电子云。在B0作用下,形成大π电子环流,应生的 感应磁场,使苯环平面上 下两锥体为屏蔽区,其余 为去屏蔽区。(如图) 苯环质子处下去 屏蔽区,使质子共振 信号在低场出现。 苯环上1H:出现在 7.5左右。 常见结构单元化学位移范围 4.积分线 NMR图上可看到一些由左右呈阶梯形的曲线,此曲线为积分线。 积分线的高度代表了积分峰的面积.根据积分线的高度可计算出和各峰相对应的质子数。 例如:上图 C峰积分线高度24mm, 为2质子,x/24=5/(24+36) d峰积分线高度36mm, 为3质子,x/36=5/(24+36) 6.3自旋偶合与自旋裂分 每类氢核不总表现为单峰,有时多重峰。 原因:相邻两个氢核之间的自旋偶合(自旋干扰); 1.自旋偶合与自旋裂分现象 如图:-CH3三重峰,CH2四重峰。 1H在磁场中有两种自旋取向 α表示氢核与磁场方向一致. β表示氢核与磁场方向相反. 乙基中-CH2的氢可以与磁场方向相同,也可与磁场方向相反.两个氢自旋组合共有四种(αα、ββ、αβ、βα),产生三种局部磁场。 亚甲基所产生的三种局部磁场,影响邻近甲基上的质子所受到的磁场作用。 αβ和βα两种状态产生的磁场恰好相互抵消,不影响甲基的质子共振峰。 αα状态磁矩与外磁场一致,相当于-CH3上H处于去屏蔽区,发生共振时所需磁场比①小,出现在较低场。 ββ状态磁矩与外磁场相反,相当于-CH3上H处于屏蔽区,发生共振时所需磁场比①大,出现在较高场。 因此,-CH2的两个1H产生的三种不同的局部磁场,使邻近的甲基质子分裂为三重峰。 由于上述四种自旋组合概率相同。因此,三重峰相对面积比为:1:2:1。 同理,甲基上三 个氢产生四种不同的 局部磁场,反过来使 邻近亚甲基峰分裂为 四重峰,根据概率关 系,可知其面积比近 仅为1:3:3:1。(如图) 自旋裂分 上述这种相邻的自旋之间相互干扰作用称为自旋-自旋偶合,简称自旋偶合,由于自旋偶合,引起的谱线增多,这种现象叫自旋-自旋裂分,简称自旋裂分。 2、偶合常数 自旋偶合产生峰的裂分后,两峰间的间距称为偶合常数,单位Hz,用J表示 ①J的大小,表示偶合作用的强弱。J不因外BO变化而改变,外界条件(溶剂、T、浓度)等影响很小。 ②偶合作用通过成键电子传递的,因此, J的大小与两个(组)1H间键数有关,随着键数增加, J逐渐减小。 同碳偶合:间隔两个键;2j表示 邻碳偶合:相隔三个键;3j表示 远程偶合:相隔3个键以上。 一般来说,间隔4个单键或以上,J趋于0。 ③偶合是质子相互之间彼此作用的,因此互相偶合两组质子,偶合常数J相等。 ④J与取代基因,分子结构等因素有关。 ⑤等价质子或磁全同质子之间也有偶合,但不裂分,谱线仍为单-尖峰。 磁等价质子: 分子中一组氢 核,化学位移相同,且对任何一个原子核 的偶合常数都 相同。 3、一级图谱 规定: Δν/J10 弱偶合,属一级图谱 Δν/J10 强偶合,属高级图谱 一级图谱吸收峰数目、相对强度等遵守下列原则。 (1)一个峰被分裂成多重峰时,裂分峰可用(n+1)规律。 例如:二重峰表示相邻碳原子上有一个H,三重峰表示相邻碳原子有二个质子等。 (2)裂峰面积之比为二项式(a+b)n展开后各项系数。 例如: 二重峰1:1;三重峰:1:2:1; 四重峰:1:3:3:1。 例如: 右侧CH3质子与其它质子被三个以上键分开,因此观察到一个峰; 中间- CH2则有3+1=4重峰,面积比1:3:3:1; 左侧CH3,2+1=3重峰,面积比1:2:1。 C CH CH O CH 3 2 3 6.4 复杂图谱的简化方法 高级谱,采用一些实验手段简化成一级图谱。 1、加大磁场强度 J不随外磁场变化而改变的,但Δν差值却随B0改变而改变。 因此,加大外磁场强度,Δν增大,Δν/J增大,直到Δν/J10可获得一级图谱。 2、双照射去偶法(称共振法) (1)双照射去偶法(具有双照射去偶器) 去偶原因: 辅助振荡器对Hb强烈照射时,使高能态Hb核饱和,不再产生净吸收,Hb峰消失,Ha只剩下一个单峰。 该法不仅可简化图谱,且可确立哪些核与去偶质子有偶合关系。 照射 Ha 照射 Hb (2)核奥佛好塞效应(简称NOE) 分子内存在空间位置上相互靠近的两个质子 Ha和 Hb
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