年产3000吨电子级多晶硅建设建设项目多晶硅可研报告.doc

年产3000吨电子级多晶硅建设项目 可行性研究报告 目 录 第一章 总论 1 1.1概述 1 1.1.1项目名称、主办单位、建设地点 1 1.1.2编制依据和原则 1 1.1.3项目提出的背景及投资的必要性 2 1.2项目建设的有利条件 5 1.2.1xxxxxx概况 5 1.2.2项目区水资源概况 6 1.2.3供电情况 7 1.2.4当地交通运输现状 7 1.3项目研究范围 8 1.3.1工艺生产装置 8 1.3.2辅助生产装置 8 1.3.3公用工程设施 8 1.3.4其它 9 1.4项目投资 9 1.5项目主要经济技术指标 9 第二章 市场预测 11 2.1产品用途 11 2.2市场预测分析 12 2.2.1国外市场分析 12 2.2.2国内市场分析 14 2.3产品市场价格分析 17 第三章 生产规模和产品方案 19 3.1生产规模 19 3.2产品方案 19 第四章 工艺技术方案 21 4.1工艺技术方案的选择 21 4.1.1工艺技术概况 21 4.1.2工艺技术方案的确定 22 4.1.3工艺流程 23 4.2工艺装置 24 4.2.1 三氯氢硅车间 24 4.2.2氯硅烷提纯车间 29 4.2.3多晶硅车间 32 4.2.4高纯多晶硅后处理工序 36 4.2.5硅芯制备工序 38 4.2.6氢气制备及净化车间 38 4.3 产品产量和原材料、辅助材料及公用工程消耗定额及消耗量 40 4.3.1产品产量 40 4.3.2原材料、辅助材料及公用工程消耗定额及消耗量 40 4.4自控技术方案 41 4.4.1简述 41 4.3.2控制水平 42 4.4.3仪表选型 42 4.4.4仪表电源及仪表空气 43 4.5主要设备的选择 43 4.5.1设备选择原则 43 4.5.2主要设备选型 43 4.5.3主要设备表 45 第五章 原料、燃料及动力供应 47 5.1主要原材料 47 5.1.1工业硅粉 47 5.1.2液氯 48 5.1.3脱盐水 48 5.1.4氢气 49 5.2辅助材料 49 5.2.1苛性钠 49 5.2.2生石灰 50 5.2.3氢氟酸 50 5.2.4硝酸 50 5.3公用工程规格及供应 50 5.3.1、蒸汽 50 5.3.2循环水 51 5.3.3新鲜水 51 5.3.4电力 51 5.3.5氮气 52 5.3.6仪表空气 52 第六章 建厂条件及厂址方案 53 6.1建厂条件 53 6.1.1厂址区域概况 53 6.1.2供热 55 6.2厂址方案 55 第七章 总图运输 56 7.1总平面布置 56 7.1.1总平面布置原则 56 7.1.2功能划分 56 7.1.3总平面布置方案 57 7.1.4主要技术经济指标 57 7.2竖向设计 58 7.2.1设计原则 58 7.2.2竖向设计方式及土方工程量 58 7.3工厂运输 59 7.3.1运输量 59 7.3.2运输方案及运输车辆 59 7.4工厂防护设施 60 7.5绿化 60 第八章 公用、辅助工程 61 8.1供水 61 8.1.1供水水源 61 8.1.2项目用水量 61 8.1.3供水系统 62 8.2排水量及排水系统划分 65 8.2.1排水量 65 8.2.2排水系统划分 65 8.3供电 67 8.3.1全厂用电负荷及负荷等级 67 8.3.2电源状况 67 8.3.3配电方案 68 8.3.4功率因素补偿 68 8.3.5电气设备选型 68 8.3.6节能措施 69 8.4电信 69 8.4.1电信系统状况及设置 69 8.4.2电信设施方案 70 8.5供热及供冷 71 8.5.1供热 71 8.5.2供冷 72 8.6空压、制氮 73 8.6.1空气压缩 73 8.6.2制氮 73 8.7维修和仓库 74 8.7.1维修 74 8.7.2仓库 74 8.8化验室 75 8.8.1化验室设置的目的 75 8.8.2化验室设置的任务 75 8.8.3化验室的规模、要求和组成 75 8.8.4分析仪器设备 76 8.9贮运设施 76 8.9.1概述 76 8.9.2原料、中间产品及成品的贮存天数与贮存量 77 8.10 工艺及供热外管 78 8.10.1工作范围及介质情况 78 8.10.2管道敷设的原则及敷设方式 79 8.11 采暖通风及空气调节 79 8.11.1设计采用的标准规范 79 采暖、通风及空气调节的设计原则 80 8.11.2采暖、通风及空调设计方案 81 第九章 土建工程 82 9.1编制依据 82 9.2建筑、结构设计原则 82 9.3建筑、结构设计方案 83 9.4对防火、防腐、防噪、防尘及建筑物内外装修等问题的处理 83 9.5工程地质 84