注入剂量的均匀性检测和校正.pdfVIP

2005年12月 第十三届全国电子柬·离子束·光子束学术年会 湖南·长沙 注入剂量的均匀性检测和校正 王迪平伍三忠孙雪平孙勇王玮琪 (中国电子科技集团第48研究所，长沙410111 北京中科信电子装备有限公司．北京100036) 摘要：本文介绍了离子注入机中注人剂量的均匀性检测和校正．着重阐述了均匀性的检测原理、 均匀性计算公式、均匀性检测和校正流程及算法。 关键词：离子注人机；注入剂量；均匀性； 1引言 随着半导体集成电路技术的发展，集成度越来越高，电路规模越来越大，电路中单元器件尺寸越 来越小，已经进入纳米级别，因此对半导体工艺设备提出了更高的要求。离子注入机作为半导体离子 掺杂工艺线的关键设备之一，要具有可靠性好、生产效率高、多种电荷态离子宽能量范围注人、精确控 制柬注入能量精度、束纯度、低尘粒污染、整机全自动控制、注片均匀性和重复性好、平行束注入等多 种功能和特征。其中注片剂量的均匀性能否达到纳米级器件的工艺要求就完全取决于注入剂量的均 匀性检测和校正。 2均匀性检测原理 离子柬在扫描电压作用下，在水平方向扫开，由于束流的不稳定，束斑的离散和束平行度不佳都 将导致扫描行内的束流密度不均匀。在垂直方向上由直线电机带动靶盘上下运动，吸附在靶盘上的晶 片就完成了垂直方向的扫描，由于束流的不稳定和机械扫描的运动误差都将导致垂直方向行与行之 间的注入非均匀性。因此在注入掺杂前要进行水平扫描行内的束均匀性检测和校正，在注入过程中。 要进行垂直方向行与行之间注人剂量的均匀性检测和校正。 注入前，束流在水平方向扫开后，通过一个移动法拉第杯在水平方向匀速运动，在整个扫描场(包 括过扫描)中均匀取数百个点，读取每个点的束流值，对所取的点进行标准方差计算，求出相对标准方 差即水平方向的均匀性。注入过程中，将垂直扫描范围(包括过扫描)分为几千行，到注人剂量完成。对 每行的注入剂量累计值进行标准方差计算，求出相对标准方差即垂直方向的注入剂量均匀性。 3．均匀性计算公式及指标 水平扫开后束流值的标准偏差为叮z=簪，那么相对标准偏差詈。100％即 Ⅳ ∑如) 为行内均匀性，其中Z=生L，i(n)为移动法拉第测到的各点束流值。 1 N -236- 2005年12月 第十三届奎目电子束·离子束·光子束学术年套 湖南·长沙 为垂直方向的剂量均匀性，其中D25与F一，D(n)为各行的剂量累计值。 注入剂量均匀性指标为：Io-一0．5％。 4．均匀性检测和校正流程 如图l所示，主控制器发送组成扫描波形(每段用斜率和终点位置定义的分段线性的曲线)的斜 率和位置数据到扫描发生器里的RAM，然后通过均匀性控制器发送斜率触发信号，触发扫描发生器 产生三角波形发送给扫描偏转电源，通过扫描偏转电源的放大，产生符合要求(在一定的偏转电压下) 的扫描电压加载到一对呈半喇叭形状的扫描偏转板上面，使束流在水平方向扫开，通过平行透镜的作 用使扫开的束流平行的注入到晶片上；在均匀性控制器的控制下，产生控制直线电机的正弦波信号和 加速度信号，送给直线电机驱动器驱动直线电机动作，带动靶盘及吸附在靶盘上的晶片做垂直扫描运 动，这样就完成了二维扫描运动。 图1扫描装置框图 在注人前要进行水平扫描波形的校准，具体流程见图2。先加载一定偏转电压K，使法拉第杯接 收到最大的束流值，然后移动法拉第杯(如图4示)测量束流，绘制出束剖面曲线(即图3中u(x))并且 计算出到靶束流积分值即到靶总束流。 -237- 2005年12月 第十三届全国电子束·离子束·光子束学术年会 湖南·长沙 测量在×方向上未被扫描的束剖面u(