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半導体材料のエネルギービーム照射効果
半導体材料のエネルギービーム照射効果
半導体材料に加速器や電子顕微鏡をもちいてエネルギービーム(イオン?電子)を照射した場合の照
射効果を調べている。エネルギービームが材料に与える照射損傷の研究に加えて、照射下という極
端な非平衡状態での材料改質や新しいナノテクノロジー材料の創製も試みている。
イオンビーム照射 電子ビーム照射
加速器によるイオンビーム照射 透過型電子顕微鏡による電子ビーム照射
最大加速電圧60kV 最大加速電圧30kV 最大加速電圧 最大加速電圧
2MV 200kV
超高圧電 汎用電
子顕微鏡 子顕微
重イオン加速装置 @大阪大 鏡@高
@京都大学原子炉 学超高圧 知工科
実験所 FIB@高知 電子顕微 大学
工科大学 鏡セン
100nm ター
50nm
N. Nitta et al., J. Appl. Phys. 92, 1799 (2002).
50nm
50nm
イオン?電子の比較
N. Nitta et al., Philo. Mag. Lett. 91, 223 (2011).
N. Nitta et al., Mater. Trans. 51, 1059 (2010). N. Nitta et al., Philo. Mag. Lett. 91, 676 (2011).
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