激光作用下硅靶材的等离子体谱研究.pdf

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激光作用下硅靶材的等离子体谱研究.pdf

第28卷,第lo期 光谱学与光谱分析 V01.28。N0.10,pp371—372 oo and ()ctobcr。2008 2 8年lo月 Specn‘oscopySpectralAnalysis 激光作用下硅靶材的等离子体谱研究 刘丽炜,蔡红星,李昌立,张喜和,郑 峰 长春理工大学,吉林长春130022 摘要建立一套激光等离子体光谱测量实验装置,以Nd;YAG调Q倍频固体激光器为激发光源,硅作 nm处的等离子体谱,分析等离 为样品。获得了不同激光能量时的硅样品原子辐射谱图,从中提取硅在634 子体谱强度的变化趋势,得到的实验结果与理论分析符合的很好。 关键词激光等离子体;光谱;激光烧蚀 中图分类号:()433文献标识码:A 文章编号:1000-0593f2∞8)lO—0371一02 众所周知,强脉冲激光辐照固体材料将引起材料烧蚀, 等离子体谱。我们提取634啪处的等离子体谱线,改变激 产生等离子体,并从靶面溅射出大量电子、原子、分子、原 光器的输出能量,通过高斯拟和得出硅等离子体在激光器的 子分子簇以及它们的正负离子L1]。等离子体的产生过程是一 不同输出能茸下光谱相对强度变化图。图2中的曲线分别是 个非常复杂的瞬态物理过程,深入了解该过程的物理机制是 激光器输出能量为177,250,311,377列时所对应的硅等 研究激光与物质相互作用物理学的重要内容。 离子体发射光谱相对强度,拟合曲线如图2所示。 本论文利用光谱法对激光作用硅靶材激发的等离子体谱 100()o 进行研究,通过实验得出硅等离子体谱强度随激光激发电压 的增加而增强。激光输出能量的变化是造成硅等离子体谱强 8000 度变化的主要因素。在一定条件下激光输出能量对靶材的特 征谱和电子温度等都有一定的影响,这些将有利于我们对激 光与物质相互作用进行更深入的研究。所用光源为调Q倍频 064 固体YAG激光器,激发波长为lnrll,脉宽为10Ils。图 扫誊$葺o》焉一出 1给出了激光器输出能量为39lrnJ时激光作用硅靶材的 2000 16 0 620 660 wavelength,n“ Relati蚰ofsi relativein咖sny Fi昏2 pl踟m aIld laser 莹12

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