扫描隧道显微镜说课.ppt

Scanning Tunneling Microscope (STM) 扫描隧道显微镜 发明背景 1 2 3 4 新型 显微镜 STM 发明 工作原理 扫描隧道显微镜发明前的微观形貌检测技术 任何一项发明都不是凭空产生的，都是在前面的工作的基础上的进化。扫描隧道显微镜也不例外。扫描隧道显微镜是用来检测微观形貌的，在其发明以前，就有几种微观形貌检测技术了，只是分辨率较低。表面微观形貌的测量，从原理上可以分为两类： 第一类是光成像，包括光折射放大成像和光干涉成像。光折射放大成像检测方法的代表是光学显微镜和透射电子显微镜；光干涉成像法的代表是光干涉显微镜和TOPO移相干涉仪。 第二类是对试件表面进行扫描，逐点检测，从而获得表面微观形貌的信息。这一类检测方法的代表是表面轮廓仪和扫描电子显微镜（SEM） 1.光学显微镜 光学显微镜是在光学放大镜基础上发明的，放大镜的物体形貌分辨率可达到0.1mm。1665年发明了光学显微镜，它可将被测物体放大数百倍。光学显微镜经过多次改进，现在的放大倍数达到1250倍。如果再采用油浸镜头或用紫外光，放大倍数还能在提高一些。光学显微镜使用方便，应用广泛，但受光波波长的限制，放大倍数无法再提高。 2.透射电子显微镜（TEM） TEM出现在20世纪30年代，到50年代进入实用阶段。透射电子显微镜和光学显微镜的原理极为相似，只是用波长极短的电子束代替了可见光线，用静电或磁透镜代替光学玻璃透镜，最后在荧光屏上成像。TEM的放大倍数极高，点分辨率可达0.3nm，线分辨率可达0.144nm，已达原子级分辨率。用TEM观察物体内部显微结构时，可看到原子排列的晶格图像，并已观察到某些重金属原子的投影图像。用TEM检测时，试件需放在真空室内。 TEM是通过电子束透过试件而放大成像的，电子束穿透材料的能力不强，故试件必须做得极薄，加工这种极薄的试件有相当难度，故TEM的适用范围有限。 3.表面轮廓仪 用探针对试件表面形貌进行接触测量是一种古老的方法。随着测量技术的提高，现在的测量表面粗糙度的轮廓仪，分辨率达0.05um以上。为了避免探针尖磨损，用金刚石制造。探针尖曲率半径在0.05um左右，这就限制了测量分辨率的提高，且测量时针尖有一定力压向试件，容易划伤试件。 一些新式的轮廓仪配备了X、Y双向精密微动工作台，探针在试件表面进行X、Y双向往复扫描，再用计算机处理信息，可以得到表面微观形貌的三维立体图像。这种轮廓仪的检测原理和近代的STM、SPM和AFM极为相似，只是后者使用了更尖锐的探针和更灵敏的探针位移检测方法。 4.扫描电子显微镜（SEM） SEM从20世纪60年代开始应用以来，使用日渐广泛。它的工作原理是利用高能量、细聚焦的电子束在试件表面扫描，激发二次放电，利用二次放电信息对试件表面的组织或形貌进行检测、分析和成像的一种电子光学仪器。 SEM的放大倍率在10-150 000范围内连续可调，试件在真空室中可按观察需要进行升降、平移、旋转或倾斜。 SEM在普通热钨丝电子枪条件下，分辨率为5-6nm，如用场发射电子枪，分辨率可达2-3nm。SEM的景深很大，对表面起伏很大的形貌也能得到很好的图像。只是放大倍数较低，达不到原子级的分辨率。 5.场发射形貌描绘仪 场发射原理在1956年由R.Young提出，但直到1971年R.Young和J.Ward才提出了应用场发射原理的形貌描绘仪。它在基本原理和操作上，是最接近扫瞄隧道显微镜的仪器。探针尖装在顶块上，可由X向和Y向压电陶瓷驱动，做X向和Y向扫描运动。试件装在下面的Z向压电陶瓷元件上，由反馈电路控制，保持针尖和试件间的距离。 R.Young使用的针尖曲率半径为几十纳米，针尖和试件间的距离为100nm。在试件上加正高压后，针尖与试件间产生场发射电流。 探针在试件表面扫描，可根据场发射电流的大小，检测出试件表面的形貌。 R.Young用形貌描绘仪继续进行研究，发现当探针尖与试件间距离很近时，较小的外加偏压Vb即可产生隧道电流，并且隧道电流Is的大小对距离z极为敏感。他们观察到的Is和Vb间为线性关系时，估计针尖-试件间的距离为1.2nm。可惜他们的研究到此为止，虽然已经有了以上发现，但是未在检测试件形貌时利用隧道电流效应，于一项重大发明失之交臂，甚为可惜。 5.场发射形貌描绘仪 发明背景 1 2 3 4 新型 显微镜 STM 发明 工作原理 扫描隧道显微镜的发明 1982年，IBM瑞士苏黎士实验室的葛·宾尼和海·罗雷尔研制出世界上第一台扫描隧道显微镜（Scanning Tunnelling Micros