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常壓電漿原理、技術與應用-CreatingNanoTechnologies.pdf

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常壓電漿原理、技術與應用-CreatingNanoTechnologies

常壓電漿原理、技術與應用 1.徐逸明 經理 馗鼎奈米科技股份有限公司 2.游閔盛 研發工程師 馗鼎奈米科技股份有限公司 3郭有斌. 高級工程師 台灣凸版國際彩光股份有限公司 4黃. 傑 博士班研究生 國立成功大學化學工程系 5.洪昭南 教授 國立成功大學化 學工程 系 通訊作者 : 洪昭南 hong@.tw Tel: (06 )275-7575 x62662 Fax: (06 )2385423 徐逸明 YMHsu@ Tel: (06 )232-3927 Fax: (06 )301-3155 關鍵詞 ◆常壓電漿 (Atmospheric-pressure plasma) 噴射式電漿◆ (Plasma jet) ◆介電質放電 (Dielectric barrier discharge ,DBD) ◆表面清潔改質/ /活化 (Surface clean/modification/Activation) ◆平面顯示器 (Flat panel display ,FPD) ◆發光二極體 (Light-emitting diode ,LED) 觸控面板◆ (Touch panel) 引言 目前電漿技術已廣泛應用於各產業上,如: 光電與半導體產 業、3C與汽車零組件產業、民生與食品化工業、生醫材料產業、烤 漆與黏著前處理產業、空氣與水汙染處理產業等。但現今發展最為成 熟的電漿技術多在 真空製程下進行,而有諸多缺點,如抽真空耗費時 間、真空設備與維護費昂貴、物品尺寸受限於腔體大小 、無法進行線 上連續製程等。由於「常壓電漿技術 」無上述限制,設備與操作成本 低、操作速度快、可適用於連續式的製程操作,因此容易與其他連續 式的設備相結合而大幅提升生產效率,目前已是產學界積極研究的 題目 之一 。此外,常壓電漿對當紅的液晶顯示器、發光二極體、觸控 面板及太陽能電池 製程已有相當大的助 益,本文將針對目前常壓電 漿技術之原理、發展與應用做一深入探討。 電漿簡介 電漿態 (plasma)是人類繼固、液、氣三態之外發現的 物質第四 態 ,主要是藉由氣體在高電磁場下離子化後,形成一個包括電子 (帶 負電荷) 、正離子 (偶有負離子)、活性自由基與中性氣體分子所組 成的高活性氣體團 ,通常會自行發光 。在正常狀況下,電漿中的 正電 荷總數約略等於負電荷總數, 而具有近似電中性(Quasi-neutral)的特 性 ,故大陸地區的科學家又稱之為「等離子體」 。常見的電漿現象包 括:太陽、閃電、極光、日光燈及霓虹燈 等。 電漿原理 [1] 電漿為氣體物質在電磁場中被解離成正負粒子的狀態。基本上 電漿含有陰陽離子、電子、高反應性的自由基和中性粒子。在電場 中,由於電子的平均自由徑 ( )較陽離子大很多,因此 mean free path 電子可被急劇加速,累積至極高能量(數十 eV ),此高能電子和原 子或分子碰撞,將可打斷分子內的鍵結而形成高反應性的自由基 ( ),或使原子、分子產生解離( )而 Reactive free radical Ionization 進行分解反應。解離所產生的電子再受電場加速,與原子、分子碰 撞,產生更多的電子、離子、或自由基 ,形成連鎖反應( Chain reaction ),最後形成具高能電子、高反應性自由基的電漿狀態。 電漿的產生是靠碰撞 ,當電子在電場中加速時

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