新興科技之薄膜技術應用，依據光波分類（中央大學薄膜技術中心）http.doc

薄膜技術Thin film Technology 一、 何謂薄膜技術 薄膜是目前最流行的表面處理法之一，可應用於裝飾品、餐具、刀具、工具、模具、半導體元件等之表面處理，泛指在各種金屬材料、超硬合金、陶瓷材料及晶圓基板的表面上，成長一層同質或異質材料薄膜的製程，以期獲得美觀耐磨、耐熱、耐蝕等特性依據沈積過程中，可以區分為物理氣相沈積(hysical vapor deposition；)通常稱為物理蒸鍍及化學氣相沈積(hemical vapor deposition；)通常稱為化學蒸鍍。隨著沈積技術及沈積參數差異，所薄膜的可「單晶」「多晶」、或「非結晶」的結構。?二、薄膜成長機制（Thin film growth mechanism） 薄膜的成長是一連串複雜的過程所構成的。圖（一）為薄膜成長機制的說明圖。首先到達基板的原子必須將動量降低或發散，原子才能「吸附」(Adsorption)在基板上。這些原子會在基板表面發生化學反應並進行薄膜的表面作擴散運動，這個現象稱為吸附原子的「表面遷徙」(Surface migration)。當原子彼此相互碰撞時會結合而形成原子團過程，稱為「成核」(Nucleation)。原子團必須達到一定的大小之後，才能持續不斷穩定成長。因此小原子團會傾向彼此聚合以形成一較大的原子團，以調降整體能量。原子團的不斷成長會形成「核島」(Island)。核島之間的縫隙須要填