磁控共溅射操作步骤.docVIP

开机 1 分子泵、各磁控靶接通冷却水，检查水路是否漏水。 2 各单元电源与总电源接通，总电源供电。（启动总电源前，报警选择档指向报警；开总电源后，A、B、C灯亮） 3 启动机械泵，缓慢打开旁抽阀V2，预抽溅射室。 4打开ZDF2AK复合真空计，当示数显示4 Pa时，关闭旁抽阀V2，打开电磁阀(有清脆的响声)，然后启动分子泵开关，待示数显示为零时，启动START，并马上打开闸板阀G1（逆时针旋转到底后稍微回转），开始抽高真空（7*10-5）。 5 打开计算机，进行运行参数设置。（见后面介绍） 6 达到所需真空度后（4*10-4，大概半小时），准备镀膜。（见后面介绍） 7 镀膜完毕后，关闭直流或射频电源，关气路。（见后面介绍） 靶位自动调节程序 1 挡板控制及状态 各靶挡板显示与溅射室内靶挡板位置一致。若不一致，则改变计算机上显示状态，点击“开（关）”按钮即可，在挡板没有达到相应的“开（关）”状态时，该按钮是闪烁的，达到所需状态时，按钮是亮的。 2 转盘控制与状态 样品与样品挡板状态 确定显示与当前溅射室内一致，若不一致，则重新标定。例如：当前溅射室内状态为样品2对应样品位置A位，样品挡板显示A位，然而计算机显示样品1对应样品位置A位，样品挡板显示A位。拖动样品1到样品2，将弹出“样品编号”对话框，点击“否”，则可以重新标定样品编号。重新标定样品挡板，样品位置时也是如此操作。