Exp4偏振实验(一)目的了解TEwave与TMwave在外部入射的反射.doc

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Exp4偏振实验(一)目的了解TEwave与TMwave在外部入射的反射

Exp4偏振實驗(一) 目的: 了解TE wave與TM wave在外部入射的反射現象及Brewsters angle的應用,以及理解Maluss law的各種現象。 原理: (1)TE Wave與TM Wave的反射率 TE (Transverse Electric field) wave為入射光的電場與入射面垂直,如圖: 為滿足邊界條件,可得下式: TM (Transverse Magnetic field) wave為入射光的磁場與入射面垂直,如圖: 下式也同為滿足邊界條件, 我們可知, 將式(5)帶回式(2)得到下式,我們假設n1=ni、n2=nt, (6) 又反射數(Reflection coefficient), 然後我們定義相對折射率, 又根據Snells law得知, 所以我們可以推得TE Wave和TM Wave的反射係數,對TE wave來說: 對TM wave來說: 我們將替換成下式, 所以我們可以將式(12)帶回式(10)和式(11),得到: 對外部反射(External reflection)來說, 又ni=1, 所以我們可以求得反射率(Reflectance), 當光垂直入射(θ=0°)時, 下圖為TE()與TM()的反射率和入射角的相對關係: (2)Maluss law Maluss law是敘述一個線偏振光,以一個傳輸軸與電場向量間的夾角θ通過偏振片後的強度。將線性偏振光入射到偏振片,那麼藉由旋轉偏振片,我們可以分析入射光的偏振狀態。假設偏振片的透振軸相對於入射光中電場的角度為θ,那麼只有Ecosθ的分量允許通過這一個偏振片,經過偏振片的光強度正比於電場的平方,亦即檢測到的強度隨(Ecosθ)2而變。因為當θ = 0(電場平行於偏振片的透振軸)時,所有的電場將通過,這是最大入射條件,在任何其他角度θ,入射強度由Maluss law可知: 儀器: 綠光雷射(532 nm) x1 方解石(calcite) x1 532nm 半波片x1 反射鏡x2 x1 載玻片x1 Glan-Laser 偏振稜鏡x1 偏振片x1 雷射功率計(Power meter)x1 *方解石會分出兩道光,一道為O-ray (尋常光線),另一道為E-ray (異常光線)。O-ray為原入射光的方向,如下圖: 實驗中所使用的綠光雷射並非為線偏振,為了使其轉換成線偏振,我們在綠光雷射前加裝一個Glan-laser 偏振稜鏡,它是一種雙折射的線偏振稜鏡,也是一個線偏振分割器,分開出來的光具有正交偏振。它是由兩個方解石(calcite)的直角稜鏡組成,將斜邊接觸放置,形成一個矩形方塊,Glan-laser偏振稜鏡是Glan-Taylor偏振稜鏡的改良,Glan-Taylor的構造如下圖所示: 它們的基本結構是相同的,也就是晶體光軸的安排方向是相同的,只不過Glan-laser偏振稜鏡能夠承受雷射等級的入射光強度,散射損耗也比較小。 步驟: (一)TE Wave與TM Wave的反射率量測 1.校準光路: (1)首先架設綠光雷射與兩面反射鏡,讓入射光與兩面反射鏡的夾角接近呈45°,盡量將光入射於反射鏡的中心,架設如圖一: (2)把放置於號反射鏡的左方,調整號反射鏡的上旋鈕,如圖二讓光能,再放置於屏幕前,接著調整號反射鏡的上旋鈕讓光能: (3)重複步驟(2)直到自製等高器前後擺放的位置皆能讓光能,完成後並在屏幕上點出線偏振光的位置。 2.檢驗TE Wave和TM Wave的偏振方向與反射率之量測: 在號反射鏡後方架設Glan-Laser偏振稜鏡與方解石,使光入射Glan-Laser 偏振稜鏡與方解石中間,調整方解石讓反射光打回號反射鏡與鏡上的入射光同一點,如圖三: 注意事項:擋去Glan-Laser 偏振稜鏡斜向出射光,避免直射自己或他人眼睛。 此時,O-ray的偏振方向與TE Wave的電場方向相同,與入射面垂直。 (2)接著在方解石和Glan-Laser 偏振稜鏡中間架設半波片,旋轉半波片,使E-ray消失不見,只留下O-ray,即為TE Wave,再將方解石移走,如圖四: (3)在屏幕前架設載玻片,盡量讓光入射於載波片之中心,接著旋轉載玻片,利用雷射功率計測量反射光之功率,反射光方向須與偵測器垂直,每度測量一點,記錄功率,如圖五: (4)完成步驟(3)之後,把載玻片移開,並將方解石放回原來的位置,並旋轉半波片使O-ray消失不見,只留下E-ray,即為TM Wave。(註:E-ra

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