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回旋加速器;回旋加速器的发展历史;回旋加速器的类型;回旋加速器的理论基础;相对论中的质量与能量 粒子的静止质量为m0，运动质量为m；根据相对论原理 粒子的静止能量为ε0，总能量为ε 磁场 毕奥-萨伐尔定律 = 电流通过螺线管中：B=μ0nI 磁介质增强磁场：安培分子环流假说 -- 电子绕核旋转，自旋;回旋加速器的理论基础;;回旋加速器的原理;回旋加速器的原理;回旋加速器的原理;回旋加速器的原理;回旋加速器的组成及功能;回旋加速器的组成--磁场系统;磁体设计 等时性： 要求磁场必须沿半径方向逐渐增加 磁场满足上述等时性条件，将导致粒子的轴向运动的不稳定 Thomas指出：磁场沿方位角周期性变化，可产生轴向的聚焦力 磁场的调变度f ： 调变度愈高、轴向聚焦能力愈强 激励效率：磁铁气隙中的实际磁通量与理想值之比 激磁功率取决于气隙的平均高度 随着气隙的增大，造价和运行费用将迅速上升。;回旋加速器的组成--射频系统（RF System）;回旋加速器的组成--射频系统（RF System）;回旋加速器的组成--射频系统（RF System）;RF馈通电缆 RF电缆由同轴的中空铜外壳和铜心导体构成，并用螺旋型的塑胶间隔装置固定铜心和铜外壳 电缆的长度是一个重要参数：当不匹配时，RF谐振腔失调谐 ;回旋加速器的组成--离子源系统;离子源与束流性能 ①束流强度：由阴极电流调节； ② 发射度、亮度：与等离子体温度、等离子体的发射面有关，还与离子源在引出区的空间电荷、气体原子的散射有关。 ③能散度：与离子游离方式和电流的波动等因素有关。离子源的能量分散造成轨道分散，被捕获到的离子数减少 离子源气体的质量 是影响电离效率、发射度和离子源阴极寿命的重要因素 气体纯度大于99.995%，CH2含量小于1.0ppm 更换离子源气体后，须用气体冲排干净管道 ;负氢形成的机理 主要是通过离解吸附和分离复合形成 离解吸附是等离子体内部形成负离子的主要过程，对于氢分子这一过程为：e + H2 ? H2- ? H- + H 分离复合反应：热灯丝发射的电子在弧压加速下与H2分子（或H原子）碰撞，使分子处于激发态（H2*），H2*与1eV的电子作用产生H-、H???这种反应的几率较小： H2 + e ? H2* ； H2* + e(1eV) ? H- + H 离子源放电腔真空度不高，H-与气体碰撞很易丢失电子，难以获取高强度H-离子束。（相比之下 H+ 需要的真空度要低一些。） 等离子体建立在两个相对的阴极之间，在磁场中将保持等离子体浓聚。 在电场中，电子和H-离子获得的动能相等：meve2=mHvH2 ? ve/vH = ( mH /me )1/2 = 47，? 在引出区电子流约是H-离子流的50倍。因此，H-离子源的引出系统，应兼有抑制或消除电子的功能。 ;回旋加速器的组成--束流引出系统;;靶系统：完成特定核反应的装置 靶系统由靶载体、靶、控制系统组成 靶载体分固定和转动两类 固定靶载体的靶位一字排开，固定不动，需要的束流引出系统复杂 转动靶载体就像左轮手枪，束流引出通道固定，通过转动靶载体将目标靶送入通道，需要的束流引出系统简单。 每个靶有下列主要部分： ① 靶体，包括靶的前后法兰（flange），水冷却和氦冷却管路，靶室窗，支撑连接部件等。靶室窗箔膜一般为Havar合金或钛； ② 靶室，装载靶物质，完成核反应的空腔。 靶体由水冷却，靶室窗与真空窗由氦气冷却;靶分为气体靶、液体靶和固体靶。 气体靶的靶室材料通常是铝，如碳-11靶，氧-15靶，氟-18气体靶； 而液体靶的靶室材料通常是银，如氮-13靶，氟-18靶。 液体靶又分为低压靶和高压靶。 在低压状态下，辐解和靶水沸腾会造成靶物质的较大损失，影响产额。因此，必须考虑密封和冷却，使辐解产生的氧和氢复合。低压靶可以对丰度低于50%的18O-水进行可靠轰击。 高压靶室内无膨胀空间，使水的辐解降低或辐解后的氧和氢容易复合，故产量显著提高。高压靶对18O-水的纯度和丰度要求较高，丰度大于90%，纯度要求其电阻率大于18.0MΩ·cm，因为杂质分子能够阻碍水的辐解产物氧原子和氢原子的复合，也可能会引起爆炸。;降低束流的丢失（较低的气体剥离）；对高频高压电场提供绝缘。 包括真空室、真空泵、高真空阀和高、低真空计。 真空系统24小时运行，保持10-7mbar（10-5Pa）的真空度;冷却系统 包括水冷却系统和He冷却系统。 水冷却系统主要用于从各系统中将热量带出，带出的热量在二级水冷却系统中进行热交换，将热量传送到初级冷却系统。 He冷却系统主要在打靶期间对真空窗和靶窗的Havar箔膜和钛箔膜进行冷却。 水冷却系统：由两个彼此独立的单元组成，即一级水冷却系统和二级水冷却系统。 一级水冷却