文献里的合成方法精要.docVIP

stober方法是一种合成单分散硅颗粒的物理化学方法，由Werner St?ber等[1]??人最先发现。一般是指通过将TEOS加入乙醇和氨水中生成纳米硅颗粒的方法。 本体聚合：本体聚合法又称块状聚合法,是最初被报道的用于制备分子印迹聚合物的方 法。它是将模板分子、功能单体、交联剂和引发剂同时混合或溶解在极少量的溶 剂中,通过光、热等方式进行引发自由基聚合,后经研磨、破碎、蹄分和洗脱模 板得到所需尺寸的分子印迹聚合物颗粒(如图1.8所示)。 这种方法因其操作简单、制备量大、所合成的分子印迹聚合物对目标组份具 有较好的选择性,是目前广泛采用的分子印迹聚合物的合成方法_]。但是,这 一方法也存在很多待解决的问题,比如印迹分子难以完全洗脱使其在使用时存在 模板渗漏、印迹识别位点被部分包埋、需要后处理研磨造成产品的浪费、费时费 力、使用效率低等等。 原位聚合：原位聚合法又称整体住聚合法,是将印迹分子、功能单体、交联剂、引发剂、 致孔剂和溶剂(有时溶剂本身就是致孔剂)按照一定比例混合以后,放在特定容器 (如不绣钢管、PEEK管、毛细管)中或固体表面上直接聚合的方法。Matsui等首 先在不绣钢管(HPLC)中,通过原位自由基聚合技术制得了系列分子印迹聚合 物分离材料,对位置异构体展现了很好的分离效果,手性分离选择性系数可达 1.7左右_]。随后,Sellergren等在玻璃管内,结合