真空与薄膜技术教材.pptVIP

第一章 薄膜及其特性 ;第一节???? 薄膜的定义及其特性;薄膜的特点;薄膜的特点;薄膜的特点; 薄膜材料的特殊性;（1）表面能级很大 ;（2）薄膜和基片的粘附性;基片和薄膜属于不同种物质，附着现象所考虑的对象是二者间的边界和界面。 二者之间的相互作用能就是附着能，附着能可看成是界面能的一种。附着能对基片-薄膜间的距离微分，微分最大值就是附着力。;实验结果表明：;氧化物具有特殊的作用。即使对一般的金属来说不能牢固附着的塑料等基片上也能牢固附着。 Si、Cr、Ti、W等易氧化（氧化物生成能大）物质的薄膜都能比较牢固地附着。 若在上述这些物质的薄膜上再沉积金属等，可以获得附着力非常大的薄膜。 为增加附着力而沉积在中间的过渡层薄膜称为胶粘层（glue），合理地选择胶粘层在薄膜的实际应用是极为重要的。;（3）薄膜中的内应力;一般说来，薄膜往往是在非常薄的基片上沉积的。在这种情况下，几乎对所有物质的薄膜，基片都会发生弯曲。 弯曲有两种类型：一种是弯曲的结果使薄膜成为弯曲面的内侧，使薄膜的某些部分与其他部分之间处于拉伸状态，这种内应力称为拉应力。 另一种是弯曲的结果使薄膜成为弯曲的外侧，它使薄膜的某些部分与其他部分之间处于压缩状态，这种内应力称为压应力。 如果拉应力用正数表示，则压应力就用负数表示。 ;（4）异常结构和非理想化学计量比特性; 化合物的计量比，一般来说是完全确定的。但是 多组元薄膜成分的计量比就未必如此了。 当Ta在N2的放电气体中被溅射时，对应于一定的N2分压，其生成薄膜 的成分却是任意的。 ;（5）量子尺寸效应和界面隧道穿透效应;另外，表面中含有大量的晶粒界面，而界面势垒;（6）容易实现多层膜;多功能薄膜： 各膜均有一定的电子功能，如非晶硅太阳电池: 玻璃衬底/ITO（透明导电膜）/P-SiC/i-μc-Si/n-μc-Si/Al和a-Si/a-SiGe叠层太阳电池:玻璃/ITO/n-a-Si/i-a-Si/P-a-Si/n-a-Si/i-a-SiGe/P-a-Si/Al至少在8层以上，总膜厚在0.5微米左右。 ;超晶格膜: 是将两种以上不同晶态物质薄膜按ABAB……排列相互重在一起，人为地制成周期??结构后会显示出一些不寻常的物理性质。如势阱层的宽度减小到和载流子的德布罗依波长相当时，能带中的电子能级将被量子化，会使光学带隙变宽，这种一维超薄层周期结构就称为超晶格结构。 当和不同组分或不同掺杂层的非晶态材料（如非晶态半导体）也能组成这样的结构，并具有类似的量子化特性，如a-Si?:?H/a-Si1-xNx?:?H, a-Si?:?H/a-Si1-xCx?:?H……。应用薄膜制备方法，很容易获得各种多层膜和超晶格。 ;第二节 薄膜材料的分类 ;按薄膜的功能及其应用领域分为： ;（1）电学薄膜;（2）光学薄膜;（3）硬质膜、耐蚀膜、润滑膜;（4）有机分子薄膜;（5）装饰膜、包装膜 ;薄膜材料研究进展;（6）Spintronics薄膜、稀磁半导体薄膜 ZnO:Mn，GaN:Mn，GaAs:Mn （7）有机薄膜微电和光电材料（OLED) 需要提高效率和可靠性 （8）High-K、Low-K材料?更快的速度、 更高的集成度、更低的能耗，含氟氧 化硅、Hf02、Zr02 （9）高温超导和巨磁阻 （10）有机薄膜及有机-无机混合薄膜 （11）新型薄膜…;薄膜的应用举例;;超薄电视，显示器;;Ultraviolet LED;微电机系统(MEMS)，纳电机系统(NEMS);;微电机系统(MEMS)，纳电机系统(NEMS);微电机系统(MEMS) 纳电机系统(NEMS);薄膜加工：;第三节 薄膜的形成过程;一、化学气相沉积薄膜的形成过程;图5-12 典型CVD反应步骤的浓度边界模型 ;二、真空蒸发薄膜的形成过程;（一）凝结过程;（二） 薄膜的形成与生长 ;三、 溅射薄膜的形成过程;四、 外延薄膜的生长;第四节 薄膜的结构特征与缺陷;一、薄膜的结构;（一）薄膜的组织结构 ;1．无定形结构;2．多晶结构;3．纤维结构;4．单晶结构;（二） 薄膜的晶体结构;（三） 薄膜的表面结构;二、薄膜的缺陷 ;1、 点缺陷 在基体温度低时或蒸发、凝聚过程中温度的急剧变化会在薄膜中产生许多点缺陷，这些点缺陷对薄膜的电阻率产生较大的影响。 2、 位错 薄膜中有大量的位错，位错密度通常可达 。由于位错处于钉扎状态，因此薄膜的抗拉强度比大块材料略高一些。 3、 晶粒间界 因为薄膜中含有许多小晶粒，因而薄膜的