材料分析方法-李晓娜-22 其它显微分析方法.pptVIP

第五篇 其他显微分析方法;第一章 能谱分析类;1.1 俄歇电子能谱（AES）; （2）俄歇跃迁及其几率俄歇电子产生的过程：A壳层电子电离，B壳层电子向A壳层空位跃迁，导致C壳层电子发射，即俄歇电子。考虑到A电子的电离引起原子库仑电场的改组，使C壳层能级由EC(Z)变成 EC(Z+D)，其特征能量为： ? EW — 样品材料逸出功D — 修正值; 例如原子发射一个KL2L2俄歇电子，其能量为?  引起俄歇电子发射的电子跃迁多种多样，有K系、L系、M系等。俄歇电子与特征X射线是两个相互关联和竞争的发射过程 ，其相对发射几率，即荧光产额 ωK 和俄歇电子产额 αK 满足（K系为例） ?????????? ;俄歇电子产额 α 随原子序数的变化见下图 Z15时，无论K、L、M系，俄歇发射占优势，因而对轻元素，用俄歇电子谱分析具有较高灵???度。 ; 俄歇电子的能谱检测 俄歇电子的信噪比（S/N）极低，检测相当困难，需要特殊的能量分析器和数据处理方法。（1）阻挡场分析器（RFA）（2）圆筒反射镜分析器（CMA）CMA灵敏度较RFA高2-3个数量级。 ;利用后加速技术的低能电子衍射装置示意图; 其主体是两个同心园筒；样品和内筒同时接地；在外筒上施一可调负偏压，内筒开有园环状的电子入口和出口。进入两个园筒夹层中的电子因外筒上的负压而使其方向逐渐偏转，最后经出口进入探测器。若连续改变外筒上的负电压，就可以使不同能量的俄歇电子依次检测出来。从而可记录到Auger电子计数NE—能量E（eV）分布曲线。在园筒镜面能量分析器中还带有一个离子溅射装置，用来进行表面清理和剥层。 ;2、谱线分析Auger电子的峰值的能量范围50—1500 ev间，它和SE，BE等存在范围不重叠。?俄歇电子的记录方式有如图所示几种。 ;3、俄歇电子能谱仪（AES）;4、俄歇电子能谱分析（点分析和深度剖析）;Cu(C)薄膜的纳米俄歇面分布图;1.2 X射线光电子能谱（XPS） ;1、分析原理 建立在Einstein光电子发射定律基础之上，即X射线光子激发样品原子内壳层电子，产生光电子发射，称为X射线光电子，能量范围100-10KEV。;2、X射线光电子能谱仪（XPS） ;主峰或特征峰：表征样品电子结合能的一系列光电子谱峰伴峰：能谱图中的非光电子峰化学位移：原子所处化学环境不同，内壳层电子结合能会发生变化，导致谱峰位移，因此可以测定价态。 ;3、测量化学位移;Cu的标准谱(X射线光电子谱主峰和化学位移表) (a) Cu的标准谱(俄歇线) (b);1.3 X射线荧光光谱;1、工作原理;2、X射线荧光光谱分析的特点 ①分析元素范围广Be–U； ②测量元素含量范围为0.0001% (10-6ppm) - 100%； ③分析试样物理状态不做要求，固体、粉末、晶体、非晶体均可； ④不受元素的化学状态的影响； ⑤属于物理过程的非破坏性分析，试样不发生化学变化的无损分析； ⑥可以进行均匀试样的表面分析。 ;端窗型X射线管结构示意图;4、主要性能指标 ;分析性能;1.4 电子能量损失谱分析;Ni-O化合物的电子能量损失谱示意图;电子能量过滤成像可以呈以下图像： (1) 完全弹性散射电子像 (2) 元素成分分布图 (3) 其他特征能量电子过滤成像 ;;2.1 红外光谱;1、原 理;;红外谱图的分区 按吸收峰的来源，可以将2.5~25μm的红外光谱图大体上分为特征频率区（2.5~7.7μm）以及指纹区（7.7~16.7μm）两个区域。 其中特征频率区中的吸收峰基本是由基团的伸缩振动产生，数目不是很多，但具有很强的特征性，因此在基团鉴定工作上很有价值，主要用于鉴定官能团。 指纹区的情况不同，该区峰多而复杂，没有强的特征性，主要是由一些单键C-O、C-N和C-X(卤素原子)等的伸缩振动及C-H、O-H等含氢基团的弯曲振动以及C-C骨架振动产生。当分子结构稍有不同时，该区的吸收就有细微的差异。这种情况就像每个人都有不同的指纹一样，因而称为指纹区。指纹区对于区别结构类似的化合物很有帮助。 ;红外光谱分为发射光谱和吸收光谱两类 物体的红外发射光谱主要决定于物体的温度和化学组成，由于测试比较困难，红外发射光谱只是一种正在发展的新的实验技术，如激光诱导荧光。 将一束不同波长的红外射线照射到物质的分子上，某些特定波长的红外射线被吸收，形成这一分子的红外吸收光谱。每种分子都有由其组成和结构决定的独有的红外吸收光谱，它是一种分子光谱。 ;3、红外光谱仪;2.2 激光拉曼光谱;1、激光拉曼光谱仪工作原理;2、拉曼散射光谱的特征： l）拉曼散射谱线的波数虽然随入射光的波数而不同，但对同一样品