纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究-仪器信息网.doc

共  NUMPAGES 7 页 第  PAGE 7 页 纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究 赵涛 张毅 陈英颖 上海宝钢股份有限公司 分析测试中心 ,上海 201900 吴则嘉 刘晓晗 杨晟远 张林春 上海维安新材料研究中心有限公司 ，上海201900 摘要:研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用。通过等离子化学气相沉积法（PECVD），制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H)，利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征，通过实验发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式，PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响。 关键词：镜反射，纳米硅薄膜，衬底温度，直流电压，掺杂温度，本征，掺杂。 引言 自20世纪九十年代以来，纳米硅薄膜因其优异性能引起了人们的极大兴趣。大量的研究表明，纳米硅薄膜（nc-Si:H）是具有纳米的晶粒和大量晶间非晶??界面所构成的材料[1]。纳米硅薄膜nc-Si:H中的微晶粒具有量子点特征，光电性能好，光吸收能力强，室温电导率高，压阻系数大[4]等特点；掺杂后电导率提高两个数量级，而且其压力灵敏系统也有所提高[1，2]。 傅立叶光谱技术主要应用于医药、化工等领域的有机物质的官能团结构分析。样品制备方面，一般以液体、粉末和气体为主，对于某些特殊材料的样品的分析，传统的傅立叶红外光谱仪则