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  • 2017-04-23 发布于四川
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CM0S模拟集成电路设计ch2器件物理

模拟CMOS集成电路设计;2.1 基本概念; MOS符号;2.2 MOS的I/V特性;*;*;*;Derivation of I/V Characteristics;I/V Characteristics (cont.); I/V Characteristics (cont.);*;*;*;跨导是小信号(AC)参数,用来表 征MOSFET将电压变化转换为电流 变化的能力。反映了器件的灵敏度 ——VGS对ID的控制能力。 ;*;*;*;图中MOS管的作用是什么?应该工作在什么工作区?;即NMOS开关不能传递最高电位,仅对低电位是比较理想的开关;*;2.3 二级效应;*;*;*;沟调效应使饱和区的MOSFET不能再看成理想的电流源, 而具有有限大小的输出电阻ro;*;栅和沟道之间的氧化层电容C1 衬底和沟道之间的耗尽层电容C2 多晶硅栅与源和漏交叠而产生的电容C3、C4,每单位宽度交叠电容用Cov表示 源/漏与衬底之间的结电容C5、C6;*;大信号和小信号模型;2.5 MOS小信号模型;*;*;*;NMOS VS PMOS;NMOS管与PMOS管工艺参数的比较;长沟道器件和短沟道器件;MOS管用作电容器时;并???;注意不要混淆管子的宽W和长L;*;*

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