3薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)溅射法及其他P.pptVIP

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  • 2017-04-24 发布于重庆
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3薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)溅射法及其他P

第三章 薄膜的物理气相沉积(Ⅱ) ——溅射法及其他PVD方法;溅射法:带有电荷的离子被电场加速后具有一 定动能,将离子引向欲被溅射的靶电极。在离 子能量合适的情况下,入射离子在与靶表面原 子的碰撞过程中将后者溅射出来。溅射原子带 有一定动能,且沿一定方向射向衬底,实现衬 底上薄膜的沉积。 ;3.1 气体放电与等离子体;Ar;3.1.1 气体放电现象描述;3.1.2 辉光放电现象及等离子体鞘层;等离子体:由离子、电子以及中性原子和原子团 组成,宏观上对外呈现出电中性。 电子由于极易在电场中加速而获得能量,因而 平均速度比较快。 离子能量及平均速度均远远低于电子。;鞘层电位;鞘层电位;薄膜的物理气相沉积;正离子与二次电子复合;3.1.3 辉光放电的碰撞过程;弹性碰撞:参加碰撞的粒子的总动能和总动量保持不变,并且不存在粒子内能的变化,即没有粒子的激发、电离或复合过程发生。 两粒子弹性碰撞后: ;非弹性碰撞:部分电子动能转化为粒子内能。 内能增加的最大值;非弹性碰撞的典型过程: (1)电离过程 e- + Ar → Ar+ + 2e- (2)激发过程 e-+ O2 → O2* + e- (3)分解过程 e-+ CF4 → CF3* + F* +e- ;3.2 物质的溅射现象;

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