MOCVD材料生長等重大装备项目.docVIP

中国科学院半导体研究所 ─────────────────── MOCVD材料生长等重大装备项目 一、技术简介 MOCVD （Metal Organic Chemical Vapor Deposition）设备，即金属有机物化学气相沉积设备，是化合物半导体外延材料研究和生产的关键设备，特别适合化合物半导体功能结构材料的规模化工业生产，是其它半导体设备所无法替代的核心半导体设备，是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段，是当今信息产业发展、国防高新技术突破不可缺少的战略性高技术半导体设备。 “九五”期间，中科院半导体所设计研制了一台适合GaN材料生长的MOCVD研究型设备。这是国内研制的第一台氮化镓光电子材料外延设备，为水平反应室，一次可外延生长一片2英寸外延片。用这台设备，中科院半导体所在国内率先开展了氮化镓蓝光LED的研究工作。“十五”期间，半导体所在国家“863”计划等项目的支持下，又系统地开展了MOCVD生长室、原料输运、电路控制等方面的设计与技术研究工作，成功研制出了具有自主知识产权的可一次生长3片2英寸外延片的研发型MOCVD设备样机，实现了衬底机座的公转/自传独立调节、具有低成本的新型原料配送结构等功能，并生产出性能优良的氮化镓基材料。目前具有新颖结构设计、具有独立自主知识产权的新型6片型MOCVD系统原型机即将研制成功并投入使用，为国产化MOCVD设备的产业化发展奠定了坚实基础。 二、市场前景 据测算，当前随着MOCVD设备在半导体制造业中的广泛应用，全世界每年对MOCVD设备约有300台的市场需求，其中GaN-MOCVD设备每年至少需求120台。我国“十一五”期间约需新增LED芯片产能96亿只/年，需新增MOCVD设备至少50台（按19片机规模），设备投入将达到8000- 10000万美元规模，甚至突破1亿美元。目前世界上MOCVD设备制造商主要有两家：德国AIXTRON公司(英国THOMAS?SWAN公司已被AIXTRON公司收购)和美国 VEECO公司（并购美国EMCORE公司）。 目前国内有外延和芯片生产企业20多家，这些企业已累计引进30多台MOCVD，总投资在4000万美元左右，主要购买德国 AIXTRON和美国EMCORE两家供应商的MOCVD设备，以6片和9片机型居多，每台设备的价格在100万美元左右。近期已有企业开始引进国外19片、21片或24片机型等先进的MOCVD设备。 三，应用领域 MOCVD设备作为氮化镓、砷化镓、磷化铟等化合物半导体外延材料研究和生产的重要技术手段，特别是作为工业化生产的设备，它的高质量、稳定性、重复性及规模化是其它的半导体材料生长设备所无法替代的。它的高质量、稳定性、重复性及多功能性越来越为人们所重视。它是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段，如激光器、探测器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等光电子产业不可缺少的设备。 四、效益分析 制造一台6片机型MOCVD系统，需材料费440万元（关键部件采用进口件），加工费20万元，劳务费30万元，其它杂费10万元，成本共计500万元。销售按650万元/台，税前利润150万元，每年暂按3台的销量，税前利润可达450万元。MOCVD系统的销量将会随着产品信誉度的提高而增加，由于本项目拥有MOCVD关键技术的自主知识产权，该产品不仅可以在国内销售，还可以出口国际市场。 08年6月 08年4月 08年8月 08年10月 08年12月 电气系统安装调试 控制系统安装调试 反应室安装调试 MOCVD设备工艺调试生长实验 更多片机总体设计 MOCVD重大装备充分发挥所内力量，联合国内力量，争取国 际合作，突???关键技术，完成生产型设备的设计验证。