第2章光纤(公用)1选编.pptVIP

光缆电缆工程课程内容; 第2章光纤、光缆和光器件 ;第2章 光纤、光缆和光器件 ;§2.1光纤;2.1.2. 光纤的制造过程1.光纤的原材料选择;（1）超纯的熔融SiO2提取 超纯的熔融石英玻璃通常利用气相沉积法取得，所用原料为SiCl4、 GeCl4 化学反应式为 ;掺杂剂所用主要原料为GeCl4 、PoCl3、BCl3和SF6等。化学反应式为： ;掺杂剂除对折射率、线膨胀系数及材料提纯具有影响外，对光纤的传输性能及光纤的设计制作也都会产生作用。如图2-2/3所示。 ;石英光纤的主要原料为： 纤芯和包层本体材料 ：SiCL4 纤芯和包层掺杂用剂： GeO2 、 P2O5 、GeCL4 、 B2O3、 POCL3和F等 纤芯材料： SiO2或SiO2 + GeO2 包层材料： SiO2 + B2O3或SiO2 +F。 ;（2）光纤材料的设计 ;单模光纤掺杂方案 ?方案1: 纤芯 SiO2/包层 SiO2+F 方案2:纤芯SiO2+GeO2 /包层SiO2、F ( P2O5） 采用方案1时，其散射损耗将是最小的。包层直径与纤芯直径的比值（2b／2a）大于6。 例如G652光纤：;几种典型的光纤折射率分布图;2. 光纤制备方法;一．气相沉积法 1.外部化学气相沉积法(Outside Vapour Phase Deposition)，简称OVD法。 2.轴向化学气相沉积法（Vapour phase Axial Deposition），简称VAD法。 *3.改进的化学气相沉积法（Modified Chemical yapour Deposition），简称 MCVD法。 4.等离子化学气相沉积法Plasma activate Chemical Vapour Deposition)，简称PCVD法。 5.等离子改进化学气相沉积法Plasmaenhanced Modified Chemical yapour Deposition，简称PMCVD法。 6.轴向和横向等离子化学气相沉积法，简称ALPD法;二．非气相沉积法;;一、原料制备与提纯 MCVD法是目前使用最广泛的预制棒生产工艺。;（a）预制棒 ;四、光纤涂覆工艺;§2.2光纤的主要参数、特性及类型 ;?2.数值孔径（NA） （最大理论数值孔径） 最大理论数值孔径的定义为： 3. 模场直径 模场直径的定义，可以根据基模LP01场E01传输函数来表示，即在基模场E01（r）传输函数与横轴径向r的关系曲线上两个1/e点之间的宽度就是模场直径。 模场直径估算：2W0=2λ/（πn1√Δ） 单模光纤由模场直径代替 纤芯直径。 ITU-T规定模场直径为（9～10）±1μm ;4. 截止波长 （模光纤的截止波长）;表2-2渐变多模光纤结构参数实例 ;表2-3单模光纤结构参数实例 ;2.2.2 光纤的主要特性;表2-4 光纤的传输损耗 ;;2.线性散射;3.附加损耗：张力、侧压、弯由、挤压造成的宏弯和微弯;在附加损耗中光纤宏弯曲损耗是最主要的。在光缆的生产、接续和施工过程中，不可避免地出现弯曲，它的损耗原理如图2-11所示。 ;*单模光纤弯曲损耗的估算公式为;图2-10 光纤损耗频谱曲线;光纤不仅因有损耗使光信号传输受到限制，同时光信号传输还受到色散（多模光纤习惯称带宽）的限制。 色散？对于数字信号的光脉冲，经光纤传输时，脉冲宽度随距离增长而展宽，严重时，前后脉冲将互相重叠，形成码间干扰，导致通信系统误码增加，从而使传输距离和传输容量受到限制，这种现象称为光纤的色散。 引起脉冲展宽（色散）的因素很多，对于多模光纤主要有：模式色散、材料色散和波导色散等，其中模式色散是主要因素。对于单模光纤由于只传输一种模式，故不存在模式色散，主要受材料色散、波导色散和偏振模色散PMD的影响 ;光纤色散主要有：模式色散、材料色散、波导色散、偏振色散等。 多模光纤：模式色散、材料色散、波导色散等。 单模光纤中只传输基模LP01，总色散由材料色散、波导色散和偏振色散组成。这三个色散都与波长有关，所以单模光纤的总色散也称为波长色散。 光纤的色散单位： ps/km 光纤的色散系数单位D（λ）： ps/nm.km ;1、模式色散;4、偏振模色散（PMD）;PMD对大容量数字和模拟通信系统影响是严重的。若要10Gb/s以上的高速系统能正常工作，光脉冲展宽必须限制在一定范围。 例如，对于10Gb/s系统，其光脉冲宽度为100ps，当光路的光功率代价Pp =1dB时，群时延差DGDL最大容限为30ps；对于40Gb/s系统，其光脉冲宽度只有25ps，当Pp为1dB时，DGDL最大容限只能为10ps以下。 当光纤长度足够长时（Lh，典型值为2km以上 ）;PMDC，其典型值在之间 如