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应用于深亚微米dsoi器件的埋氧层的制备

1 2 2 2 1 1 1 1 1 2 2 第 26 卷  第 6 期 半  导  体  学  报 Vol. 26  No. 6 2005 年 6 月 CHIN ESE J OURNAL OF SEMICONDUCTORS J une ,2005 应用于深亚微米 DSOI 器件的埋氧层的制备 陶  凯1 ,2  董业民2  易万兵1 ,2  王  曦1 ,3  

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