X射线荧光分析的应用_玻璃熔片法.pptVIP

消除样品矿物效应的有效制样方法玻璃熔片法制样与分析技巧介绍;介 绍 内 容;;玻璃熔片法的特长及注意点;样品;10:1玻璃熔片制作例 ～称量～ ;10:1玻璃熔片制作例 ～混合?投入～;10:1玻璃熔片制作例 ～熔融开始～全部溶解后～摇动;10:1玻璃熔片制作例 ～熔融结束?取出样品～;粉末样品分析误差的要因;玻 璃 熔 片 法 的 误 差;稀释率?强热减量(LOI)?强热增量（GOI)模式;aj : 添加校正成分的共存成分校正常数 aLOI : LOI(GOI)的校正常数 aF : 对稀释率的校正常数 RF : 稀释率 KF : 常数项;稀 释 率 校 正;理论基体系数是由仪器内置的基本参数法（FP法）来计算的。;基 体 校 正 模 式;JIS模式和deJongh模式的基体校正系数的比较（1）; SiO2 检 量 线 比 较 ;JIS模式和deJongh模式的基体校正系数的比较（2）;CaO 检 量 线 比 较;使用玻璃熔片法制样的各种材质样品的基体校正系数的比较~以耐火材料砖的分析为例~;各材质的主要成分的含量范围和稀释率;不同材质的共存元素校正系数的比较（1）分析成分SiO2 / 测量谱线Si-Ka;SiO2检量线图;不同材质的共存元素校正系数的比较（2）分析成分Fe2O3 / 测量谱线Fe-Ka;Fe2O3检量线图;稀释率校正+共存元