新型镀膜技术实现高性能介质膜光学元件.PDFVIP

Technologies Center 技术中心 光学镀膜 新型镀膜技术实现高性能介质膜 光学元件 美国莱特太平洋公司编译 着光学应用的发展进步，其对 束镀膜技术的工作原理是通过一个电 方法称为离子辅助沉积（Ion-Assisted 随 光学元件的规格、精度、稳定 子束，在真空环境中蒸发介质材料。 Deposition， IAD）。由于这种动力转移， 性和重复性等指标也提出了更加严格 一般来说，电子束镀膜机器的室容积 使得膜层表面沉积的分子获得额外的 的要求。除了使用新的镀膜设备以外， 比较大，生产时间比离子束溅射镀膜 动能，从而在不断生长的膜层结构中 还可以通过对现有设备进行改进，例 技术更短，从而能够??低生产成本。 填充每个空隙。因此，通过仔细调整 如将离子辅助沉积镀膜技术与膜层厚 尤其是对于纳秒脉冲激光，通过电子 离子束，可以实现明显更为紧凑的膜 度光学宽带光谱监测技术相结合，从 束镀膜方法产生的膜层具有很高的损 层。相较于电子束镀膜技术，通过这 而实现一种新型的高性能膜层，以更 伤阈值，而这是离子束溅射镀膜很难 种方法获得的膜层的机械性能和热稳 好地满足应用需求。 实现的。[1] 此外，电子束镀膜可以在 定性能都有了极大的提高，已经接近 一次镀膜过程中同时制作不同中心波 于离子束溅射镀膜技术所产生的膜层。 离子束溅射镀膜 长或不同入射角的膜层。这些都是电 这种方法还可以避免膜层中掺水。这 在过去的几年中，离子束溅射 子束镀膜技术所具有的独特优势，是 样膜层就可以不受外界环境的影响， （Ion Beam Sputtering，IBS）镀膜技 离子束溅射镀膜技术无法实现的。因 而且能够保证即使在多变的工作环境 术已经在市场上投入使用，尤其是用 此，电子束镀膜技术仍然是目前各种 下，膜层的规格性能也能保持不变。 于要求非常苛刻的镀膜。由于 IBS 镀 应用的最佳选择。直到最近，电子束 通过交替使用低能量离子源，可 膜具有很高的可重复性，并且沉积速 镀膜技术才显现出了两个缺陷：一是 以准确地控制离子辅助的程度，得到 率缓慢，因此镀膜层的厚度可以制作 膜层对温度变化过于敏感，存在热漂 不同性能的膜层。这是离子辅助沉积 得非常精确。此外，这种镀膜技术可 移现象；二是对于复杂膜层的加工精 镀膜的优势，尤其是在处理对压力高 以制造出紧凑的膜层，对环境温度变 度和重复性非常有限。 度敏感的材料或者生产极高破坏阈值 化不敏感，并且散射非常少。但 IBS 随着光学技术的发展，对精密光 的膜层时，这一点尤为重要。 镀膜技术的一个最大缺点是：膜层生 学的要求不断增加。为了满足这种要 长速度非常缓慢，制作一个膜层需要