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红光LED结构:从上向下看,n型砷化镓基板、n型AlGaAs(大bandgap材料)、p型活跃层(小bandgap材料),即发光层,决定发光波长,1.42eV,850nm附近,红外范围,可以通过调整Al的含量,使之在红光范围发光;化合物半导体中增加Al,会使bandgap变大, p型AlGaAs (大bandgap材料) ,器件为双异质结构,即小 bandganp材料夹在2个大bandgap材料之间;随后是一层cap layer,介电层,电极。此图是长完累晶层后翻过来的结果,原因:基板是GaAs,1.42eV,发红外光,只要波长短于红外的光,它会吸收所有可见光,造成中间发光层发出的光全部被基板吸掉,至少有一半的光被吸掉,所以要翻过来,在基板上挖个洞,形成top-down方式。大部分LED都是面射型。;也是翻过来top-down,InP为基板,1.35eV,也会吸可见光,但图中为红外LED。
如何看出红外:InGaAsP:1.33-1.5eV,发光层是narrow bandgap材料,上下2个InP都是large bandgap材料,标准的双异质结,无需再衬底挖洞,让光出来。;没有翻过来,没有用到异质结构,简单的pn型,
GaP:N是发光层,GaP:简介带隙,效率不高,2.26eV,接近绿光。;边射型LED,红光结构,双异质结,发光层为narrow bandgap材料,夹在2个large bandgap材料之间,
边射型发光不会太强,大部分光被基板吸掉。(1980年以前);高亮度可见光LED;蓝绿光LED通常用2种基板:蓝宝石(有杂质时呈现蓝色,无杂质时是透明的),其bandgap很大,因此可见光不会被它吸收掉。;制造过程
结构特点(电极)
好处是什么;不用牺牲一部分发光区域,SiC基板导电。;早期红黄光LED;;None absorbing red yellow LED结构,假设是GaP基板; 电流不散开,集中在金属电极的下面,电流密度会非常高,致使光电转换效率下降(经验:物理曲线数值增大到一定程度,就会趋缓,达到饱和)。原因:可能是热效应,也可能是其它饱和效应,,使光电转换效率开始衰竭。因此,不希望在某个特定区域,电流密度太高。
如果电流无法散开,过于集中在金属电极区域,会使绝大部分的发光也集中在金属电极区域下方,当光打到金属接触区域时,会被挡住,使光线无法散开。
如何使光能够散开?;with window layer ;High Brightness Blue LEDs;此结构遇到一个问题:电流散不开,怎么办?
电流都集中在p-contact下面,发出的光都在p-contact下面,是否可以加窗口层?; 无法加很厚的窗口层。原因:蓝宝石基板和GaN晶格不匹配,在1000度长完晶后,降温过程中,外延层开始弯曲,因此,上面的累晶层不能长太厚,事实上,其总厚度大约在5um以下,蓝宝石的厚度在大约300-400um之间;如果累晶层厚度超过10或20um,冷却后,弯到一定程度,累晶层就会裂开,因此,无法长很厚的GaN 窗口层,要解决此问题,必须想其他办法。
p-contact下面长一层特殊材料:会导电,又能透过可见光。
2种可能选择:
A、仍然用金属,只是把金属变得很薄,但金属变薄后,出现新问题,其导电能力会迅速下降,电流散开的能力会随之降低。
B、ITO(透明导电材料);High Brightness LEDs on CIE Chromaticity Diagram(RGBLED都包括)
高亮度LED在色坐标图中的标准位置; R,G,B三色LED的光谱分布图:红光LED的半高宽,即波长分布最窄;绿光LED半高宽较宽;蓝光LED的半高宽介于二者之间。
因为不是很理想的单一波长的光,因此不会刚好落在色坐标图边缘上。
红光的半高宽小,离边缘近;
绿光偏向中间,525、505、498nm,;另外,设计色坐标时,绿光被刻意拉大也是一个原因;蓝??也比较靠近边缘。
626,615,605,590……..为λp:最高强度所对应的波长。;LED芯片介绍;Led芯片的结构;目前主流Led结构剖析;两种芯片发光形式;水平型结构Led出光路线;垂直型芯片性能介绍;水平型芯片性能介绍;垂直芯片的制成;垂直芯片剖析;垂直LED制造的方法 ;四元DBR材料;MQW LED器件结构示意图;;左:p-type large bandgap 材料
右:n-type large bandgap 材料; 量子阱(QW)是指由2种不同的半导体材料相间排列形成的、具有明显量子限制效应的电子或空穴的势阱。;多量子阱结构优势:;4、MQW使有源层变薄,避免了内部的自我吸收。
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