化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度.pptVIP

化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 改良剂是光亮剂、应力消减剂和润湿剂等的总称。光亮剂主要提高镀层的光亮度。 化学被银层刚镀出时，通常就是半光亮的*可以添加一些光亮剂来提高镀层的光亮度。 如荼二磺酸钠、对甲苯陨酰胺、硫腮等次酸性化学镀镍液中均能产生光亮沉积层。 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 硒 酸、锅离子、确和铅离子也都是有效的光亮剂，而且这些物质的加入量也有像有机化合 物那样严格。在碱性氨镀液中添加o．3g／L醋酸铀也朗增加沉积层的光亮。小林孝之等 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 在日本专利中指出在碱性葡萄糖酸钠—氨体系化学镀银硼液中加入乙二胺、二亚乙基三 脑或间二杂茂等化合物时，可使镀层致密细致，膜厚均匀。 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 在化学镀镍过程中同时有大量氢气析出，氢气在基材表面上停留时就会产生针孔、 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 凹洞或条纹，为了降低镀液的表面张力，使氢气泡能迅速脱离镀品，就必须加入适量的捷亚信科技有限公司不锈钢电解抛光设备 润湿剂。实验结果证明，o见乳化剂、烷基醇聚氧乙烯醚和十二烷基硫酸钠等均是有效 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 的润湿剂，加入量在1—10mB／L就显效果，加入过多时会产生漏镀现象。若镀液已有 空气搅拌或机械移动，润湿剂也可不用。 化学镀镍层也有应力，随着镀层的增厚，应力也加大。为了降低镀层的内应力，有 时也加入一些应力消减剂。 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 目前哪些化合物具有消减应力的作用尚不很清楚，有资料报 道某些含硫化合物有此效果．但未指出具体化合物。 有些化学镀镍液经4—5b后，就会有末金属化或未括化部位上的介电材料(如陶 瓷)表面开始沉积出镍层。为了提高镀液的选择性．即只在活化或已沉积镍的部位上进 行化学镀金。 化学镀镍改良剂主要提高镀层的光亮度。 稳定剂Pb(Ac)z在lm8儿时镀速达到峰值，稳定性有所增加，孔隙率下降，但硬 度有略微降低；N、民Q浓度大于2mg／L时稳定性、硬度提高，孔隙率略微下降，但 镀速降低，其使用量应小于2m5／L。 * * 。 *