VHDL课件第一章–概述.pptVIP

1.晶体管的发明 理论推动 19世纪末20世纪初发现半导体的三个重要物理效应 光电导效应 光生伏特效应 整流效应 量子力学 材料科学 需求牵引：二战期间雷达等武器的需求，真空电子管无法满足高频、便携性、可靠性等要求。 晶体管的发明 1946年1月，Bell实验室正式成立半导体研究小组：W. Schokley(肖克莱)，J. Bardeen(巴丁)、W. H. Brattain(布拉顿) Bardeen提出了表面态理论， Schokley给出了实现放大器的基本设想，Brattain设计了实验； 1947年12月23日，第一次观测到了具有放大作用的晶体管； 晶体管的发明 2.集成电路的发明 1952年5月，英国科学家G. W. A. Dummer(达默)第一次提出了集成电路的设想。 1958年以德克萨斯仪器公司（TI）的科学家基尔比(Clair Kilby)为首的研究小组研制出了世界上第一块集成电路，并于1959年公布了该结果。 集成电路的发明 集成电路的发明 集成电路的发明 平面工艺的发明： 1959年7月， 美国Fairchild 公司的Noyce发明第一块单片集成电路，利用二氧化硅膜制成平面晶 体管，并用淀积在二氧化硅膜上的、和二氧化硅膜密接在一起的导电膜作为元器件间的电的连接(布线)。这是单片集成电路的雏形，是与现在的硅集成电路直接有关的发明。由此，将平面技术、照相腐蚀和布