第5章：光刻解释.ppt

不同时代的五种光刻机 1. 接触式光刻机－20世纪70年代，特征尺寸≥2μm 2. 接近式光刻机－20世纪70年代，特征尺寸≥2μm 3. 扫描投影式光刻机－20世纪80年代初，特征尺寸≥1μm 4. 分步重复式光刻机－20世纪80年代后，亚/深亚微米 5. 步进扫描式光刻机－近年来发展的，亚/深亚微米 接触式光刻机和接近式光刻机 接触式光刻机和接近式光刻机的特点 1. 版上图形与片上图形1：1 2. 人工对准 3. 版接触光刻胶损伤大光刻图形缺陷多，接近式好些 4. 特征尺寸≥2μm 5. 目前大尺寸功率器件的光刻还使用它。 扫描投影式光刻机 扫描投影式光刻机的特点 1. 版上图形与片上图形1：1 2. 人工对准 3. 版与光刻胶不接触节省版光刻图形缺陷少 4. 特征尺寸≥1μm 分步重复式光刻机 NSR2005 i9c 型 NIKON光刻机 分步重复式光刻系统 分步重复式光刻机的特点 1. 版上图形与片上图形5：1（即缩小倍率5：1） 掩膜版制造更容易更精确 2. 机器自动对准 3. 光刻精度高，特征尺寸：亚/深亚微米 4. 对硅片的平整度和几何形状变化的补偿较容易 5. 为提高硅片处理速度，镜头尺寸大、曝光 区域大，造成像差大，图像畸变 6. 如今国内外工艺线均使用分步重