Fe(NO3)3浓度对水热法腐蚀多孔硅的影响.pdf

维普资讯 2006年 5月 汕头大学学报 (自然科学版) 第21卷 第 2期 M ay2006 JournalofShantouUniversity(NaturalScience) V01．2lNO．2 文章编号 ：1001—4217(2006)02·0043·06 Fe(NO3)3浓度对水热法腐蚀多孑L硅的影响 赵韦人 ，陈景东，丁 娟 ，陈绍军 (汕头大学物理系．广东 汕头 515063) 摘 要 ：用水热腐蚀法 ，通过改变腐蚀液中Fe 0 的浓度 ．制备多孔硅样 品．用扫描电子 显微镜 、荧光分光光度计和傅立 叶红外光谱仪对样 品微结构和光学特性进行检测 ．并结合 Islam．Kumar模型对检测结果进行分析．结果表明，增大腐蚀液 中Fe(XO，浓度 ，可加快腐蚀 速度 ，并使多孔硅中纳米硅尺寸减小．比表面积增大 ，从而引起样品发射峰发生蓝移 ，且对 应于Si=O键的红外吸收增强． 关键词：多孔硅 ；纳米硅 ；水热腐蚀法 ；光致发光 ；Si=-0键 中图分类号 ：0482．31 文献标识码 ：A O 引 言 在过去的六十余年中，硅作为最成功的电子材料 ，一直在推动着半导体产业不断发 展．然而 ，由于硅单晶属于间接带系半导体 ，能隙tJ,(1．12eV)，且具有反演中心，所以一 直被认为不是好的光子材料．这种看法在 1990年得到了改变．当年 ，英 国科学家 L．T． Canham发现了室温下多孔硅的强光致发光 ]，自此 ，国际上引发 了一股多孔硅发光的研究 热潮．到 目前为止，已经在多孔硅制备 、器件应用 及发光机理 等方面取得了显著 的进展． 目前 ，多孔硅制备主要有 电化学阳极腐蚀法…，化学腐蚀染色法 和水热腐蚀法 ． 而作为制备发光强度强、发光稳定 的多孔硅[3的一种较佳手段 ，水热腐蚀法的研究相 对较少，特别是腐蚀液对多孔硅发光波长的影响少有报道．本文报道了腐蚀i夜中Fe (NO3)3浓度的不同对多孔硅发射峰位置及对应于 Si=O键的红外吸收强度的影响，并结 合 Islam—Kumar模型 拟合的结果 ，对实验现象进行解释． 1 实 验 用水热腐蚀法p 制备多孔硅的单 晶硅片为P型，晶向 (1l1)，大小为 1cmX1cm， 厚度约 370}xm，电阻率为 4—6fl·C113．．腐蚀前 ，单晶硅片分别经丙酮 (AR)、无水 乙醇 (AR)和 18Mn 的去离子水超声清洗各 10min，再置于烘灯下烘干．腐蚀液 由HF(40％)和 收稿 日期 ：2OO6-o2．16 作者简介 ：赵韦人 (1965~)，男 ，浙江诸暨人 ．教授．E·mail：wrzhao@stu．edu．ca 基金项 目：国家 自然科学基金资助项 目(No ， 维普资讯 汕头大学学报(自然科学版) 第21卷 Fe 03)3组成，两者体积 比为4：3，其中，Fe(NOs)3溶液的浓度分别为0．03mol／L，0．06otol／ L，0．12mol／L (对应样 品标为 1，2 3号)．两溶液混合均匀后 ，填人反应釜 ，填充度为 70％，然后将反应釜置于 120cC的环境中保温 90Ini11．腐蚀结束后，将样 品取出，并用 流动的去离子水冲洗 60rain．最后置于大气中自然晾干． 使用 日本电子株式会社的JSM一6360LA扫描电子显微镜 (SEM)观察多孔硅样品表面， 用PerkinEhnel·公司的LS55荧光分光光度计测量样 品的PL谱 ，用美 国Nicolet公司的 Magna一750傅立叶红外变换光谱仪 (FTIR)定性检测样品的化学键． 2 结果与分析 2．1 表面形貌 图 1是对应不同Fe(03)浓度腐蚀液的 3个样品的SEM形貌图．从图中可 以看出， 1号样品表面分布的孔的尺寸约0．4—1．0p．m；2号样品表面主要分布着约 1 m的孔 ，此 外还有少量的约 0