GPP_制程简介绪论.pptVIP

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 2nd Photo ( 二次黄光 ) 光阻玻璃涂布 软烤 对位曝光 显影 硬烤 将光阻玻璃以旋转涂布机均匀的涂布在晶片表面 将光阻内之有机溶液以约90℃烘烤，以增加后续对位曝光之解析度 将软烤完成之晶片以对位曝光机进行图形转移 将曝光完成之晶片以显影液将所需之图形显现出来 将显影完成之晶片送进130 ℃之烤箱烘烤，使光阻固化 PG Coating ( 光阻玻璃涂布 ) 光阻玻璃 ( PG )： 为光阻与玻璃粉以一定之比例调配而成之胶状溶液 玻璃涂布之方法与差异 项目 DB PG EP Doctor Blade Photo Glass Electronic Plating ---- 光阻玻璃 电泳法 设备投资 较低 较高 高 黄光制程 不需 需要 不需 晶片制程 较简单 较麻烦 最麻烦 晶片产量 高 低 最低 后段切割 不易 简单 简单 光阻玻璃涂布 N N+ P+ SIPOS SIPOS PG 二次黄光完成 N N+ P+ SIPOS SIPOS PG PG Burn Off ( 光阻烧除 ) 排晶片 光阻烧除炉 光阻烧除 出光阻烧除炉 收料 将晶片一片一片排入石英舟之构槽內，并规定好方向 将排好之石