XPS技术及其在材料微方面中的应用.doc

XPS分析技术及其在材料微分析方面中的应用 摘要：本文介绍了X 射线光电子能谱（XPS）分析技术的基本原理、技术特点、研究进展、分析仪器构成以及在材料微分析方面的实际应用。 关键词：XPS分析技术；微分析；应用1、引 言： 近年来，利用各种物理、化学或机械的工艺过程改变基材表面状态、化学成 分、组织结构或形成特殊的表面覆层，优化材料表面，以获得原基材表面所不具 备的某些性能，如高装饰性、耐腐蚀、抗高温氧化、减摩、耐磨、抗疲劳性及光、 电、磁等，达到特定使用条件对产品表面性能的要求的各种表面特殊功能处理技 术得到迅速发展；对表面分析技术发展提出更高要求[1]。 材料表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法，特别是对于固体材料的分析和元素化学价态分析。目前常用的表面成分分析方法有：X射线光电子能谱（XPS），俄歇电子能谱（AES），静态二次离子质谱（SIMS）和离子散射谱（ISS）。AES分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究，而XPS的应用面则广泛得多，更适合于化学领域的研究[2]。SIMS和ISS由于定量效果较差，在常规表面分析中的应用相对较少[3]。但近年随着飞行时间质谱（TOF-SIMS）的发展，使得质谱在表面分析上的应用也逐渐增加。X射线光电子能谱（XPS）也被称作化学分析用电子能谱（ESCA）。该方法是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn教授发展起来。