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第 4 卷　第 6 期 光学　精密工程 . 4, . 6 V o l N o 1996 年 12 月 O PT ICS AND PR EC IS ION EN G IN EER IN G D ecem ber, 1996 CAD 在光学薄膜设计和生产中的应用 杨树梅 ( 中国科学院长春光学精密机械研究所, 长春 130022) 　　摘要　本文介绍了计算机辅助设计(CAD ) 在光学薄膜设计和生产中的应用, 并给 出了几个典型设计实例。利用CAD 评价光学薄膜厚度的允差和设计在镀膜过程中的膜 层厚度监控规律, 以及简化镀膜工艺, 大大提高了镀膜效率, 给人们带来极大的效益。 关键词: 计算机辅助设计; 光学薄膜 1　CAD 在光学薄膜设计中的应用 　　电磁波理论为光学薄膜的理论设计早已奠定了良好的基础, 而计算机辅助设计(CAD ) 为 光学薄膜的设计提供了重要的方便条件, 现代光学薄膜的理论设计和制造已经与 CAD 建立 了密不可分的关系。 光学薄膜的每一层膜的特性均可用一个特征矩阵来描述, n 层膜即可用下述矩阵方程描 述: n ( ) co s　　 isin 1 B r r r = 　 C r= 1 i sin 　　co s r r r n+ 1 2N d co s r r r ( ) 式中 = 即为第 层膜相位厚度 N r 与 d r 为第 r 层膜的折射率与几何厚度, r r r C 为光线在此层膜的入射角度; 为基底的光纳, 为第 r 层膜光纳。膜系光纳 Y = , 膜系的 n+ 1 r B 1 - Y 2 反射率为R , R = 1 + Y 。 若需要几十层至百层膜的设计, 其计算量是很大的, 有了 CAD 即用几十秒的时间即可得 到所要求的数据; 又如, 为了满足用户的需要, 有时必须进行非规整膜系设计, 在 45 °棱镜的斜 面上需要设计镀制如下膜系: 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2