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纳米光学非直观超显微方法与成果简介
纳米光学非直观超显微方法与成
果简介
Research Advancement in
Indirect Super-Resolution
Imaging
刘学峰 Sean Liu
2013.11.13
目 录
一、形势与面临的问题
二、非直观成像技术途径
三、研究目标与内容
四、现有基础与成果
五、非直观成像发展计划
Confidential
2
一、形势与面临的问题：形势
2012 Litho
ITRS Update:
ITRS半导体国际发展里程： @ 未来5年向
记忆元件等临界尺寸趋势 11nm 推进：均
匀度控制需要
0.2 nm 光学
检测
@ 未来10年：
多维度形貌与
结构特征检测
是6大挑战之一
Confidential 3
一、形势与面临的问题：超分辨问题
表面/界面
形貌显微
纳米材料表征 结晶过程分析 异质器件界面
多维成像
三维结构表征 偏振显微成像
物质结构分析
药物晶体检测 应力应变分析 生物分子影像
Confidential
4
一、形势与面临的问题：非光学问题
现代和未来纳米尺度显微的技术要求
高精度（10nm）、多维度、非破环、高效率、原位适应性
好、低成本
当前技术瓶颈
• SEM：效率差、对生物破坏、不能三维成像、成本高
• AFM：效率差、易损伤、高深宽比结构表征困难
• STM：面临AFM同样问题且更限于表面检测
STM image of a monolayer of liquid
crystal with graphite‐solution
interface. 36 nm 36 nm scan.
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