布拉格反射镜制作及其在光电子领域应用.pdfVIP

布拉格反射镜制作及其在光电子领域的应用 王勇刚““’ 马骁宇‘ 张志刚2 宋宴蓉’ (1．中国科学院半导体研究所 北京L00083) (2．天津大学精密仪器与光电子工程学院超快激光实验室天津300072) (3．北京工业大学敷理学院 北京 100022) 捕要：简要介绍了布拉格反射镜作为有一定反射带宽的反射镜的基本原理及其制作方法．就 光电子领域出现的应用布拉格反射镜的一些新器件和新工艺，如垂直腔面发射激光器、垂直外腔面 发射激光器以反半导体可饱和吸收镜等进行了概迷，从材料和器件角度总结了布拉格反射镜近年来 的发展． 关键词：布拉格反射钝半导体；介质 l-引言 布拉格反射镜技术来源于多层膜光学(反射膜)制各技术，现在在光电子学中发挥着日益重要的 作用．简而言之。布拉格反射镜就是交错生长的若干对两种或两种以上的半导体或介质材料，以此 来获得对某一光学波段的高反射率。布拉格反射镜技术理论上并不复杂，但是实际应用时一般要和 其他器件集成在一起，对材料的参数有所选择可能带来生长上的难度．光电子学中，布拉格反射镜 surfaceemitter 广泛地应用在垂直腔面发射半导体激光器(verticalcavity la峨VCSEL)t“，垂直外腔 extemalsurfaceemitter 面发射半导体激光器(verticalcavity laser,VECSEL)!“。半导体可饱和吸收镜 saturable (semiconductorabsorption caviIy 适材料制作好满足需要的布拉格反射镜已经成为上述大部分器件中最关键的技术． 2．布拉格反射镜原理及其制作方法 2．1布拉格反射镜原理 制作布拉格反射镜需要选择折射率大和折射率小的两种材料分别作为交错生长的膜层，它们对 入射光是透明的．对于半导体材料，还要求它们与衬底以及它们之间品格匹配I三I减少应力。实际中 多采用l，4^膜系(J为入射波长)．就是在村底上交替地生长低折射率膜和高折射率膜。每层膜的 光学厚度均为1／4 J通常需要生长几十对才可以获得高于95％以上的反射率。两种材料的折射率差越 人，布拉格反射镜的反射带宽越宽，达到一定反射率所需要生长的对数也越少。图l为50对InP／InGaAsP 构成的布拉格反射镜反射谱。图2为1550nm处常见的材料组合构成的布拉格反射镜周期数与反射率 的关系。 设衬底折射率为／7G,高折射率膜层折射率为。，低折射率膜层折射率为nL，则当膜层为偶数 (2m层)时．反射率为： ^ 一 ■ 尼置 一一 一 ～一 月 ■ + ％ -．．．．。．．—．．．．．—．．．．．．．．-一 扎一～一～一～ 厂一厂 ．；r．。．．．．．．．．J 皓一皓地晓 l B·hd-to‘1 ／ ／悔k．扣’