光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1.doc

武汉光电国家实验室 分数 光电子微纳制造工艺平台2016年试卷 名称：超净间基本规范及安全培训 考试时间： 2016年 单位： 机械科学与工程学院 黄永安 学生姓名 尹 锋 单选择题（60分） 1.化学试剂溅到身上，立即采用（喷淋头），用水冲洗15分钟。冲洗后，不要擦拭皮肤，必要时前往医院治疗。 2.穿着超净服时，（用脚套包住裤腿）。 3.超净间内使用（圆珠笔）。 4.从（风淋室）进入超净间。 5对超净间内各处的门，（轻轻）关门。 6.穿着（洁净鞋或者鞋套）进入更衣间。 7.清洗间清洗槽的排气风扇因故障停止，（继续）清洗。 8.冲洗容器的稀释液倒入（排水槽）。 9.手套破损，（立即更换）。 10.酸、碱及有机溶剂容器的盖子，使用后（立即锁紧盖子）。 11.超声清洗及其它清洗中，通风柜的门（处于半关闭位置）。 12. 废液待温度降至室温时，倒入（收集桶）。 13.稀释酸液时，（将酸慢慢倒入水中）。 14.化学试剂不小心溅到脸上或眼睛里，立即采用（洗眼池），用大量水冲洗15分钟以上。联系平台领导及工程师协助立即前往医院就医，同时通知导师。 15.进清洗间，（戴）防护眼镜或面罩、耐酸碱手套。 16.发生火警时，从（安全门）跑出超净间，在A区北面广场集合，便于清点人数。 17. 在工艺设备发生火灾时，如果火苗较小且没有过多烟雾时，同学们可使用（CO2灭火器）灭火。 18.密闭房间内，氮气泄漏有（窒息）威胁。 19.光刻工艺在（黄色光）条件下进行。 20.（取得）操作许可证，才能独立操作设备 21.超净间级别由低到高依次为：（10000级、1000级、100级）。 22.进入超净间的个人动作顺序为： 2）脱一次鞋→穿上净化服→戴上净化帽→洗手→戴上口罩手套→进风淋室→入室； 23.要带入超净间的仪器、工具、硅片和掩模盒，请在（更衣室）进行清洁。 24.所有的瓶罐，不论有无冲洗过，若没有贴上危险物质标示贴，只能由（工作人员）用水清洗。 25.（用镊子）拿硅片。 26.（N2O）） 2.在千级间内喝水。（错） 3.一个人在超净间内实验。（错） 4.在超净间内给磁控溅射机靶材进行打磨工作。（错） 5.穿皮鞋在更衣间或走廊间走动。（错） 6.在百级间内缓慢走动。（对） 7.千级间与技术夹道之间的门总是开着。（错） 8.垃圾放入字纸篓或垃圾桶，并经常把垃圾袋清除到超净间外。（对） 9.在超净间内补妆。（错） 10. 化学清洗槽的抽气装置出故障了还继续使用。（错） 11.戴着超净间内使用过的橡胶手套洗碗。（错） 12.废液入桶，有机和无机的废液倒入一个桶中。（错） 13. 发生火警时，担心弄脏超净服，所以先脱掉超净服再逃生。（错） 14.火势很大，或烟雾过多时，同学们警告附近的人员立即逃生，不管其它任何工作。灭火工作求助119专业消防员。（对） 15.未经平台主任或设备工程师审定，就实施自己的新工艺程序。（错） 16.碰到设备故障时，自己尝试处理。（错） 17.实验完成时，不通知工程师或助管，自行离开。（错） 18.化学药品用毕后，在空瓶外贴上安全标示贴，清洗完的空瓶贴上“已清洗”。（对） 19酸类调和后，立即盖紧存放。（错） 私自带剧毒、易爆炸类物品进入超净间。（错） 21.没通过安全培训，没有超净间通行证想要进入超净间工作。（错） 22.无设备操作证书使用设备。（错） 23.浓硫酸不小心溅到脸上，用大量水冲洗并用毛巾擦脸。（错） 24.在超净且门关闭的房间内，没有异味，但是感到憋气且脸发红，可能有氮气 泄露。应立即离开房间，通知工程师。（对） 非设备管理人员未经允许，不得进入技术夹道动用工艺气瓶及其它装置。（对） 书包带入超净间。（错） 看硅片表面情况时，不戴口罩，鼻子对着硅片出气。（错） 不戴手套做工艺，用手拿基片，用手开闭设备腔体盖子。（错） 稀释浓硫酸，把水沿烧杯壁倒入浓硫酸中。（错） 做工艺时，用戴着的手套外表面在皮肤上挠痒。（错） 离开时，自己的物品放入租用的整理箱。（对） 超净间同一房间内人数应维持二人及以上。（对） 工艺测试设备每天要做清洁，整个超净间每周要做大扫除，各个团队负责自 己的包干区卫生。（对） 微纳平台做实验实行预约登记制度，应提前一天预约，要做实验的每位同学 都有一张预约IC卡。毕业时交给导师传给下一届同学使用。（对） 为了保持光刻间洁净度，应保持光刻间的门经常处于关闭状态。（对） 遗留在超净间内的化学药瓶不加标示。（错） 酸碱液混合倾倒。（错） 开展光刻工艺时必须戴手套和口罩。（对） 光刻胶放置在研究生办公室。（错） 未使用过的药品及材料带入超净间必须经微纳平台领导审核批准。剧毒、易 爆炸类物品，