工艺因素对镁合金微弧氧化膜层性能的影响.pdfVIP

学兔兔 Review专题综述 工艺因素对镁合金微弧氧化膜层性能的影响 李雯霞(甘肃省酒泉职业技术学院，甘肃酒泉市 735000) 摘要：本文通过对镁合金微弧氧化膜-,f4备中电流密度、电压、脉冲频率、占空比、电解液配方、浓度、温度、电导 率、氧化时间等的分析，表明电参数和非电参数都是影响微弧氧化膜层形成、组织结构和性能的重要因素。 关键词：镁合金；微弧氧化膜；制备工艺 中图分类号：TG146．22；文献标识码：A；文章编号：1 006—9 658(2011)02—4 微弧氧化技术是在A1、Mg等轻金属的表面用等 电流密度的选定还必须与其他工艺条件和性能要求相 离子体化学和电化学原理生长一层类似陶瓷性质的氧 结合。这些工艺条件包括电解液组成和温度、基材成 化膜的技术。该技术电解液无污染，生成膜层与基体的 分、电源模式等。当微弧氧化初期形成的一层致密初始 结合力强，尺寸变化小，使镁合金耐磨损、耐腐蚀、抗热 氧化膜达到一定的最低厚度后，如果电流密度还低于 冲击及绝缘性能都得到很大改善，这有利于镁合金的 某一低限值，则微弧氧化过程不能继续进行。在一定范 进一步推广应用。它是近年来兴起的一种新型表面处 围内，膜层厚度随着电流密度的增大而增厚，硬度也随 理技术，成为国内外研究的热点。近年来，国内外学者 之增加，但是，电流密度对膜层增长有一个极限值，超 对涉及镁合金微弧氧化技术的诸多方面，如电源的直、 过这个值，膜层易出现烧损现象llJ。对于以形成耐磨、耐 交流，电流密度、电压、脉冲频率、占空比等电参数，电 蚀、耐热涂层为目的的微弧氧化工艺，电流密度在5～ 解质种类、成份等电解质参数以及合金种类对微弧氧 40A·dm之范围内选定是适宜的 。 化过程，膜层的结构、成份、相组成及膜层的耐蚀性和 1．2 电压 耐磨性的影响进行了深入研究，并探讨了着色及封孔 电压是影响微弧氧化的另一个重要的电参数。不 处理等问题，取得了丰硕的成果。研究表明，镁合金微 同的溶液有不同的工作电压范围。电压过低，陶瓷层生 弧氧化膜层制备主要是通过对微弧氧化制备工艺过程 长速度过小，陶瓷层较薄、颜色浅、硬度也低；工作电压 中的各个环节进行调控，以便达到控制微弧氧化膜层 过高，工件易出现烧蚀现象_3】。电压对微弧氧化膜层的 特征参量及性能的目的。镁合金微弧氧化制备的工艺 影响可总结如下：在微弧氧化处理过程中，当起始电压 因素主要有以下两个大方面：电参数和非电参数。 相等时，终止电压愈高，陶瓷层厚度越厚；当终止电压 相等时，起始电压愈高，陶瓷层厚度也越厚；试样的表 1 微弧氧化工艺参数中的电参数 面粗糙度随微弧氧化处理终止电压的升高而增加，与 电参数是影响微弧氧化膜层形成、组织结构和性 起始电压变化的关系不明显。通过延长微弧氧化处理 能的重要因素。可供调节的电参数种类及范围与微弧 的时间，同时降低微弧氧化处理的电压，可以获得表面 氧化设备有极大的关系。目前使用的微弧氧化电源主 质量好并具有一定厚度的陶瓷层。电压值不能过高，否 要包括直流电源、脉冲直流电源、交流脉冲电源及复杂 则将造成陶瓷膜层的破坏。另外，在微弧氧化过程中， 波形的电源。目前使用最多的微弧氧化电源是交流脉 加压速度和一次加压幅度等都会对膜层外观和厚度造 冲电源。采用交流脉冲电源模式时，可调整的电参数较 成很大的影响『4_。 多，其中包括电压、电流、脉冲频