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用于新一代高密度可录光盘的有机材料研究进展
第 23 卷 第 3 期 物 理 学 进 展 Vol . 23 ,No . 3
2003 年 9 月 PRO GR ESS IN PH YSICS Sept . ,2003
文章编号 (2003) 0303 129
用于新一代高密度可录光盘的有机材料研究进展
黄福新 ,吴谊群 ,顾冬红 ,干福熹
( 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海 20 1800)
摘 要 : 本文在总结近几年来国内外文献和专利报道的最新研究成果基础上 ,简要阐述
了新一代高密度可录光盘的数据存储机理以及激光器工作波长与有机材料薄膜最大吸收波
( ) ( )
长相匹配的要求 ,介绍了在蓝 紫 光波段内 350~400 nm 具有显著吸收的有机材料研究概
况 ,并讨论了这些有机材料作为新一代高密度可录光盘数据存储介质的可能性 。最后 ,对有
机材料用于新一代高密度可录光盘数据存储介质的研究重点以及今后的发展前景进行简要
讨论和展望 。
关键词 : 有机材料 ;高密度可录光盘 ;光数据存储 ;波长匹配
中图分类号 : O43 ,O62 文献标识码 : A
0 引 言
光存储介质是发展信息光存储技术的核心和关键 ,每一种新型光存储介质的出现 ,都
会对信息光存储技术的发展起到极大的推动作用 , 因此要进一步拓展信息光存储的应用
领域 ,就必须研究和开发出新型的高性能的光存储介质[ 1 ] 。光存储介质按属性分类可分
为无机光存储介质和有机光存储介质 ,前者是由无机材料如碲基合金等构成存储介质 ,后
者是由有机材料如菁染料 、偶氮染料或者酞菁染料等构成存储介质 。研究表明 ,无机材料
作为光存储介质 ,尽管也具有较好的灵敏度和读写特征 ,并已实现商品化 ,但存在光盘结
构和制备方法复杂 , 从而导致成本较高 , 并且容易被空气 、湿气侵蚀 , 毒性较大等缺
点[2~3 ] 。与无机材料相比,有机材料具有存储密度高 、溶解性能好 、制作成本低 、环境污
染小 、抗磁能力强 、以及结构易于加工 、波长易于调节等一系列的优点[4~6 ] , 因此 ,采用有
机材料作为光存储介质一直受到世界各国的普遍关注 ,并且已相继地投入大量的人力 、物
力和财力进行研究和竞争 ,使其迅速发展 。
有机材料作为光存储介质 ,其早期的研究工作主要是针对工作波长为 780 nm 激光
收稿 日期 :
( )
基金项 目: 本课题系上海市科学技术发展基金 No . 0 1226 1068 资助项 目
( )
作者简介 : 黄福新 1972 - ,汉族 ,博士研究生 ,主要从事有机光存储材料的研究
3 期 黄福新等 :用于新一代高密度可录光盘的有机材料研究进展 3 13
器 ,并早已实现产品化 。能与波长为 780 nm 激光器相匹配的有机存储材料主要有多甲
川链菁染料 、偶氮染料 、酞菁染料 、醌类染料 、双硫酚镍染料等[7 ] 。后来 ,随着激光器工作
波长的缩短 ,人们的注意力开始转向能与波长为 635/ 650 nm 的激光器相匹配的有机材
料 ,如短甲川链菁染料 、偶氮染料 、亚酞菁染料等[6~9 ] 。近年来 ,激光器的研究有了更快
( )
地发展 ,特别是 405 nm 蓝 紫 光激光器产品的实现 ,光盘的存储密度和存储速度将会获
(
得了大幅度的提高 ,如超高密度光盘 Super High Density Digital Versatile Disc ,简称 SHD
) ( ) (
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