低温烧结氧化铝陶瓷.doc

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低温烧结氧化铝陶瓷

第 2 1 卷第 1 期 2 0 0 7 年 1 月 济南大学学 报( 自然科学版) JO URNA L O F UNIVERS IT Y O F JINA N ( S ci . T ech1 ) Vol . 2 1 No. 1 Ja n. 2 0 0 7 文章编号: 1 6 7 1 - 3 5 5 9 ( 2 0 0 7 ) 0 1 - 0 0 1 7 - 0 3 低温烧结氧化铝陶瓷 史国普, 王 志, 侯宪钦, 孙 翔, 俎全高, 徐秋红 ( 济南大学 材料科学与工程学院, 山东 济南 2 5 0 0 2 2 ) 摘 要: 选用 C a O - M g O - S i O 2 ( C M S ) 和 T i O 2 两种添加剂来降 领域的工业生产中被广泛采用[ 3 ] 。 低氧化铝陶瓷的烧结温 度。通过设 计正交 试验讨 论烧 结助 [ 4- 5 ] 分别以M g O - A l 2 O 3 - S i O 2 Kwon 和 S i ng h 等 剂和烧结温度对氧化铝陶瓷的相对密度的影响规律, 并用扫 和 C a O - A l 2 O 3 - S i O 2 玻璃为烧结助剂, 分析并阐述 描电子显微镜观察了不 同配方 氧化铝 陶瓷的 显微结 构。结 果发现: C M S 质量分 数为 6 % 、T i O 2 质 量分 数为 1 % 、烧 结温 度为 1 5 0 0 e 时 氧化铝陶 瓷的相对密 度 9 8 . 7 1 % 。同 时晶体 发育比较均 匀, 没有 出现 晶体 的异 常长 大和 二 次再 结 晶现 了A l 2 O 3 陶瓷溶解- 沉淀过程的动力学和烧结机 理。然而两种烧结助剂对 A l 2 O 3 陶瓷的液相烧结激 活能均较高, 致密化效果不好。溶解- 沉淀为液相 烧结中的主要过程, 它对致密化的贡献与基体在液 象。 关键词: A l 2 O 3 陶瓷; 相对密度; 添加剂; 晶体 中图分类号: T B 3 2 1 文献标识码: A 相中的溶解度有关, 溶解度越大则致密化程度越 [ 6 ] 。由相图可得 A l 2 O 3 在 C a O - M g O - S i O 2 中的 高 溶解度远大于其在 M g O - A l 2 O 3 - S i O 2 和 C a O - 氧化铝陶瓷熔点高, 硬度高, 且有优良的热稳定 [ 1 ] 。但是仅用 C a O - A l 2 O 3 - S i O 2 玻璃中的溶解度 性和化学稳定性, 是优异的工程陶瓷材料之一。但 M g O - S i O 2 作为烧结助剂, A l 2 O 3 陶瓷的致密度只能 其离子键较强, 从而导致其质点扩散系数低( A l 3 + 在 达到 9 5 % 左右, 而且致密烧结温度较高。因此本文 1 7 0 0 e 时扩散系数仅 1 0 - 1 1 cm2 # s- 1 ) 、烧结温度较 中以商业高纯的 A - A l 2 O 3 为原料, 通过添加 C a O - 高。例如 9 9 氧化铝陶瓷的烧结温度可高达近 1 8 0 0 M g O - S i O 2 和 T i O 2 两种复合烧结助剂来降低陶瓷的 e 。如此高的烧结温度将促使晶粒长大, 残余气孔 烧结温度。 聚集长大, 导致材料力学性能降低, 同时也造成材料 气密性差, 且对窑炉耐火砖的损害较大。因此, 降低 1 实验原料及方法 氧化铝陶瓷的烧结温度, 降低能耗, 缩短烧成周期, 实验主要原料为A - A l 2 O 3 ( 纯度 9 9 . 8 % , 平均粒 减少窑炉和窑具损耗, 从而降低生产成本, 一直是企 径 6 . 5 L m) , C a O - M g O - S i O 2 玻璃相( C M S ) 分别按 业所关心和急需解决的重要课题。对于陶瓷材料而 3 0 B 9 B 2 1 的质量比称量混合, T i O 2 ( 纯度9 9 % , 平均粒 [ 1 ] : 一是通 言, 一般采用两种途径来降低其烧结温度 径 2 . 7 L m) 。将各个含量的烧结助剂和粉料一起用 过获得超细颗粒、无团聚、以及分散均匀的良好烧结 高纯的氧化铝小球湿磨 48 h, 烘干, 加入 PVA 造粒, 活性的粉体来达到降低烧结温度的目的; 二是添加 然后在 5 0 M Pa 条 件下 压力成 型, 最 后分 别在 适量的烧结助剂, 以达到促进材料致密化并且在低 1 45 0 e 、1 5 0 0 e 、1 5 5 0 e 的温度下烧结, 保温 3 h 温烧结的目的。其中烧结助剂又分为两类[ 2 ] : 一类 后, 炉冷至室温。 是与氧化铝生成固熔体, 例如 T i O 2 、C r2 O 3 、M nO 2 等; 利用 A r

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