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电子纯水制备用水厂RO膜分离技术的应用
莱特莱德水厂水处理设备有限公司
电子纯水制备用水厂RO
膜分离技术的应用
一、纯水在电子元器件生产中的作用
纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出,
纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的
重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,超纯水
主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生
产中纯水的用途及对水质的要求也不同。
在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含
有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂敷碳酸
盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大
性能及寿命,因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中,
其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属
的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,
如纯水中含铜在8ppb 以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb 以上就
会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就
会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光
点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12 个工序中,玻壳清洗、
沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5 个工序需使用纯水,每生产一个显
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像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,
如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电
路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器
生产对纯水水质的要求见表1。
表1 显像管、液晶显示器用纯水水质
项
目 细
电阻率 微粒 TOC Na+ K+ Cu Fe Zn
单 菌
位
个
MΩ.cm(25℃) 个/ml mg/L μg/L μg/L μg/L μg/L μg/L
/ml
黑
白 ≤10(Φ
显 ≥5 ≤5 > ≤0.5 ≤10 ≤10 ≤8 ≤10 ≤10
像 0.5μm)
管
彩
色 ≤10(Φ
≥5 ≤1 ≤0.5 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
显 >1μm)
像
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管
液
晶
≤10(Φ
显 ≥5 ≤1 ≤1 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
>1μm)
示
器
在晶体管、集成电路生产中,纯水设备厂家主要用于清洗硅片,
另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配
制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用超纯水清洗
硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水
中的碱金属(K、Na 等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu 等)
会使PN 结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga 等)会使N 型半导体特性
恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb 等)会使P 型半导体特性恶化,水中细菌
高温碳化后的磷(约占灰分的20~50%)会使P 型硅片上的局部区域变
为N 型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片
表面,就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要
求见表2。
表2 集成电路(DRAM)对超纯水水质的要求
集成电路(DRAM)集成度16K 64K
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