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搪玻璃设备制造质量工艺规定 QI01-17-02 搪玻璃工艺 1 内容与适用范围 1.1 本规程规定了在金属基体表面上烧制搪玻璃釉层的工艺程序及要求，适用于搪玻璃设备（配件）的予处理及涂搪烧成工艺。 配件包括：填料箱、放料阀、搅拌器、温度计套管等。 依据标准 GB25025-2010 搪玻璃设备技术条件 GB/T7987~7990搪玻璃设备试验方法 3 工艺流程图 3.1 搪玻璃过程质量控制程序图 4 搪玻璃基体技术要求 4.1 搪玻璃设备金属基体制造内表面基本要求。 4.1.1 搪玻璃设备金属基体制造中应避免表面的损伤，需搪玻璃面不得有不利于搪玻璃的瑕疵，否则应进行修磨，修磨范围的斜度不小于1：5修磨深度应不大于0.5mm，否则应于补焊。 4.1.2 搪玻璃件金属基体焊接接头，要遵守搪玻璃面优先对齐的原则，焊接接头对口错边量≤（10%δ+1）mm且不大于3mm。 4.1.3 搪玻璃基体搪玻璃面的焊缝应平滑过度至母材，不允许有夹渣、气孔、咬边、未焊透等缺陷。 4.2 搪玻璃件金属基体表面处理及要求 4.2.1 搪玻璃件金属基体在搪玻璃前应对其需搪玻璃面顺次进行修磨、预烧和喷砂（丸）处理。 4.2.2 修磨 金属基体需搪玻璃面应进行手工和机械修磨，焊缝余高应修磨平整，转角部位应修磨至圆弧过渡；修磨后的金属基体的搪玻璃面应平滑，无裂纹、气孔、夹杂、分层、电弧灼烧伤等缺陷和其它影响，搪玻璃层质量的瑕疵，在修磨中金属基体表面如出现4.1.1的情况，应按该条的要求进行补焊。 4.3 预烧 要求：金属基体受热均匀适度，防止变形和极度氧化，消除焊接应力，适合喷砂，搪玻璃涂层烧成工艺。 4.3.1 准备合适的烧架，清除铁胎内的异物。 4.3.2 烧架必须摆平放正，间距适当，予浇件与烧架吻合方可入炉。罐盖应单个扣在平架上进行，严禁多件乱垒一起予烧。 4.3.3 予烧温度780~900℃，时间依据工件品种规格等因素，区别对待。原则上应达到各部位红热基本一致，能生成较均匀的氧化层。 4.3.4 出炉后，要待适度冷却再行吊运，以防变形。 4.4 喷砂（丸）正理 4.4.1 金属基体搪玻璃面喷砂（丸）处理的质量，应符合GB/T8923中喷射或抛射除锈的Sa3级或手工和动力工具除锈的St3级要求。 4.4.2 罐身外部的上接环以上、下接环以下也要进行简单的喷砂处理。 4.4.3 表面处理完毕后，搪玻璃面应禁止水、油和有机物等的污染，禁止用手触摸，并应及时进行搪玻璃。 4.5 釉桨的调制与喷涂 4.5.1 釉桨的调制应按照搪玻璃釉生产企业提供的说明书进行，釉浆调制好后，应防止污染，并在使用过程中保持均匀的悬浮状态。 4.5.2 釉浆喷涂用的压缩空气应干燥、洁净。严禁油、水及灰尘的混入。喷涂时压缩空气的压力应保持稳定。 4.5.3 釉浆喷涂层应均匀，凸面部位宜薄，厚度应逐遍增加。 4.5.4 喷涂后的搪玻璃釉层应充分干燥，干燥后釉层不得有裂纹、起皮、粉瘤、明显的皱纹等缺陷，应防止水、油、汗迹和有机物等污染。 4.6 烧成 4.6.1 烧成炉和烧成支架应满足搪烧工艺的要求。 4.6.1.1 根据不同产品和不同的深层情况，适当掌握烧成温度和时间。 4.6.1.2 钢板底釉烧成温度：900~940℃ 4.6.1.3 铸铁底釉烧成温度：880~920℃ 4.6.1.4 面釉的烧成温度：840~920℃ 4.6.2 每烧成一扁应对搪玻璃面进行检查，发现针孔、裂纹、暗泡、鱼鳞爆、发沸、变形等缺陷时应分析原因并及时处理，无法局部修复的缺陷应复搪，重大缺陷的正理及复搪应记入质量档案。 4.6.3 烧成过程中应随时对搪玻璃层厚度及工作的形位公差进行测量与控制。 4.6.4 搪玻璃件烧成完成后，应保证搪玻璃层的均匀、光滑和充分融合，其最终质量应符合GB25025-2010第9章的要求。