薄膜工程与应用.PDF

薄膜工程與應用 Physical Vapor Deposition Professor : 吳文端 Student : 劉柏均 碩光一甲 MA3L0115 Role of Plasma in Sputter Deposition （電漿對濺鍍的作用 ） 電漿的形成 : 電漿常被描述為帶正負電粒子的電中性物質，有三個準則。 １﹒似電漿的物質 :帶電粒子間必須彼此非常接近而足以影響旁邊許多帶電粒子 , 而非僅僅是與其最靠近的粒子有互動（這些共同效應是電漿中極為特別的特性）。 電漿近似物在一些特定粒子的巨大影響範圍內是有效的。（這個範圍叫做 Debye sphere ，而該半徑就是德拜屏障長度＂Debye screening length＂）在Debye sphere 內的平均粒子數被稱做電漿參數 Λ （希臘字Lambda ）。 ２﹒容積相互作用（Bulk interactions）：德拜屏障長度（同上述定義），相較 於電漿的體積是比較小的。這個依據顯示，在電漿體積內的相互作用，比在邊緣 會產生的邊界性應重要。 ３﹒電漿頻率（Plasma frequency）：電子電漿頻率（描述電子的電漿震盪），與 電子 -中性粒子的碰撞頻率（描述電子和中性粒子的碰撞頻率）相較