2热处理与局部掺杂.pptxVIP

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  • 2017-05-28 发布于重庆
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2热处理与局部掺杂

热处理和局域掺杂技术 ;第二章:扩散掺杂技术;2.1.晶体中的杂质扩散 2.1. 1.基本扩散机理(模型) 1)间隙式扩散 间隙原子从一个间隙 位跳到邻近的间隙位, 造成原子的移动。 如:O、Fe、Au等;2)替位式扩散 杂质原子在晶 格中移动方式是由 一个晶格跳到下一 个晶格。 如:B、P、Au等。 替位式扩散需要杂质 原子的邻近位是一空位(空位交换);或者,需要将邻近的替位原子推到邻近的间隙位。因此,这种扩散机制的扩散速率较慢。;3)其它扩散机制 a)直接交换 b)Kick-out机制 (page 45, Kick-out机制的 扩散速率一般超 过替位式扩散 如:Ni等。;扩散系数的普遍表达式: 通常高阶电荷态的几率很小可以忽略 (P.43、44;Table:3.2, Example: 3.1) 而某一种扩散系数可以表达为: D=D0exp(-ka/kT) 可以得到Arrhenius Plot;多种扩散机制共存情况 增强扩散 各向异性扩散;2.1. 2. 扩散的数学描述 1)Fick’s扩散定律(一维) (物理本

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