Fe-Ni合金薄膜的结构和磁性-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 .# . %$$G . ， ， ， J‘4 -.# +‘ -. H35 %$$G （ ） $$$*#%=$E%$$GE.# $. E .$*$ DUND K@_0OUD 0O+OUD %$$G UW,6 - KW5B - 0‘ - !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! !#$% 合金薄膜的结构和磁性 李晓红 杨 正! （兰州大学磁性材料研究所，兰州 #$$$$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %$$# ’ %$$# ’ ’ 用射频磁控溅射制备了 薄膜，研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响 通过 ()*+, - 选择适当的溅射条件和热处理温度，可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的()*+, 软磁薄膜- 关键词： 薄膜，磁头材料 ()*+, ： ， ， ’(( ..$/ .$ ..$0 大小的高纯 片，通过调整镍片的数量来调整 G22 +, 薄膜的成分 基片采用 单晶 基片 A 引 言 - ’22 C ’22 0, （（ ）取向）为了使薄膜产生单轴各向异性，薄膜 $$ - 随着硬盘面密度的提高，记录介质的矫顽力越 沉积的时候加了 # 的磁场 溅射条件的 G A$ C $ DE2 - 来越高，这就要求写入磁头的磁芯材料必须有更高 变化范围如表 所示 通常的溅射条件是溅射气压 - 的饱和磁化强度才能在记录介质上写入信息- 常用 $ A% K3，溅射功率#=$M，基片与靶的距离. A$2 - 的坡莫合金 的饱和磁化强度（ ）约为 薄膜的磁性由日本东英公司生产的 +,’$ ()%$ ! B $ A ’ N?1O J0H* 振