大屏幕场致发射显示器薄膜型精细金属电极的研制-西南科技大学学报.PDF

第 卷 第 期 液 晶 与 显 示 ， ２４ ４ Ｖｏｌ．２４Ｎｏ．４ 　 　 　 　 　 年 月 ， ２００９ ８ ＣｈｉｎｅｓｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＬｉｕｉｄＣｒｓｔａｌｓａｎｄＤｉｓｌａｓ Ａｕ．２００９ ｑ ｙ ｐ ｙ ｇ 文章编号： （ ） １００７２７８０２００９０４０５２８０５ 大屏幕场致发射显示器薄膜型精细金属电极的研制 张永爱，许华安，郭太良 （福州大学 场致发射显示技术教育部工程研究中心，福建 福州 ， ： ） ３５０００２Ｅｍａｉｌ ｏｎａｉｚｈａｎ ｆｚｕ．ｅｄｕ．ｃｎ 　 ｙ ｇ ｇ＠ 摘 要：在洁净的玻璃基底溅射 ＣｒＣｕＣｒ复合薄膜，利用光刻和湿法刻蚀技术制备了大屏 　 幕场致发射显示器薄膜型精细金属电极。讨论了不同腐蚀液对金属 刻蚀的影响，借助视 Ｃｒ 频显微镜和台阶仪测试刻蚀后的电极形貌，结果表明，用质量比为 的 、 ６∶３∶１００ ＫＭｎＯ４ 和 的混合液腐蚀 膜的刻蚀速率平稳，刻蚀后的 电极边缘整齐，内向侵蚀 ＮａＯＨ Ｈ Ｏ Ｃｒ Ｃｒ ２ 少。此外，分析了 刻蚀液对 膜的刻蚀机理，讨论了刻蚀液在静置和循环条件下对制 ＦｅＣｌ Ｃｕ ３ 备 薄膜型精细电极的影响，借助视频显微镜测试刻蚀后的电极形貌，结果表明， 刻 ＦＥＤ ＦｅＣｌ ３ 蚀液在循环条件下刻蚀 膜速度均匀，刻蚀后电极边缘整齐。 Ｃｕ 关 键 词： ；大屏幕；精细电极；湿法刻蚀 ＦＥＤ 　 　 中图分类号： ＋ 文献标识码： ＴＮ８７３．９５ Ａ 　　　 利用光刻和湿法刻蚀技术制作了应用于大屏幕场 １ 引 言 　 　　 致发射显示器的 ＣｒＣｕＣｒ复合薄膜型精细金属 场致发射显示器（ ）是利用阴极发射电子 电极，对不同刻蚀液在不同状态下对金属 膜和