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湿法刻蚀技术
微纳米加工 —
湿法刻蚀技术
微纳米加工
湿法刻蚀技术
微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
学习目标
刻蚀的目的和分类
湿法刻蚀特点及应用范围
几种常用材料的湿法刻蚀及注意事项
湿法刻蚀与干法刻蚀的区别
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
主要参考书
1. 《半导体器件物理与工艺》, 【美】施敏著,赵鹤
鸣,钱敏,黄秋萍 译,苏州大学出版社
2. 《微纳米加工技术及其应用》 崔铮著, 高等教育出版
社
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
一. 刻蚀的目的和分类
微纳米加工技术是用来在各种功能材料上制作微纳米结
构,通过曝光可以得到各种光刻胶的微纳米图形,但光刻胶
本身不是功能材料,需要通过刻蚀将图形转移到下层功能材
料上。
刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方
法,有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分功能薄膜层除
去,从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上一致的图形。
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
刻蚀的主要目的: 紫外光
掩模版
衬底 衬底 衬底
涂光刻胶 曝光 显影
金属;
氧化物;
其它材料
1、旋涂光刻胶
2、曝光
3、显影
4 、干法或湿法刻蚀 衬底 衬底
5、浸泡腐蚀液中
去胶 刻蚀
刻蚀是一种非常有用的图形转移技术
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
— EVG — M.A.Schmidt
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
刻蚀用掩膜材料:
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微纳米加工 —— 湿法刻蚀技术
分类:
化学刻蚀
刻蚀
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