2－巯基苯并噻唑对铜缓蚀行为的表面增强红外光谱研究.pdfVIP

物理化学学报(WuliHuaxueXuebao) December ActaP ．-Chim．Sin．2013，29(12)，2565-2572 2565 [Article] doi：10．3866／PKU．WHXB2013l0294 www．whxb．pku．edu．cn 2．巯基苯并噻唑对铜缓蚀行为的表面增强红外光谱研究 霍胜娟 陈利红 祝 卿 方建慧 (上海大学理学院化学系，上海200444) 摘要： 2．巯基苯并噻唑(MBT)是Cu的高效缓蚀剂，但是缓蚀机理存在较大争议．本文通过电化学极化曲线从 宏观角度对缓蚀效率进行评估，并利用原位衰减全反射．表面增强红外光谱技术结合理论计算研究了电位控制 下的微观吸附构型．结果表明：在较高电位 (大于0V，相对饱和甘汞电极(SCE))下，MBT和金属Cu之间发生电