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氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底.pdf

氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底.pdf

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氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底

生物医学工程学杂志 JBiomedEng 2003;20(2):328~ 331 =================================================================== 氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷 薄膜培养基底 张毅奕 陶祖莱 中科院力学所 国家微重力实验室 北京 ( , 100080) 摘要 发展了氧等离子体硫化法制作可变形聚二甲基硅氧烷薄膜培养基底的技术 与传统的加热硫化法相 。 比 该法制作的基底表面具有亲水性 细胞的黏附 铺展以及基底皱褶变形的发展均非常迅速 此外 观察了细胞松 , , 、 。 , 弛素 处理过程中基底皱褶的变化 结果表明这种技术具有较高的时间分辨率 D , 。 关键词 氧等离子体 聚二甲基硅氧烷 可变形基底 细胞 - OxygenPlasmavulcanizedDeformablePolydimethylsiloxane SheetCultureSubstrates ZhangYiyi TaoZulai ( , , , 100080) NationalMicrogravityLaboratory InstituteofMechanics CAS Beijing Abstract A methodofpreparingdeformablepolydimethylsiloxanesheetculturesubstratesbyoxygenplasma . , vulcanizationwasdeveloped Ascomparedwiththetraditionalheatingvulcanizationmethod thesubstratespre- , , paredinthiswayhavehydrophilicsurfaces theadhesionandspreadingofcellsbothoccurquickly andthewrin- , . , klingdeformationofsubstratesdevelopsquickly too Inaddition thechangesofwrinklesduringtreatmentofcy- , . tochalasinD wereobserved andtheresultshowsthatthistechniquehashightemporalresolution Keywords Oxygenplasma Polydimethylsiloxane Deformablesubstrate Cell 加热硫化法存在一些内在的缺陷 主要源自于 1 引 言 ,

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