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玻璃基片和石英试杆对磁光薄膜居里温度测量的影响及其消除方法
60 J Magn Mater evices Vol 32 No 1
: 1001-3830(2000) 06-0060-03
李 震,邱进军, 朱全庆,胡用时
(华中科技大学电子科学与技术系, 湖北武汉 430074)
: 在磁光薄膜居里温度的测量中, 当薄膜的磁化强度 号与石英试杆和玻璃基
片的磁化强度 号具有同一数量级时, 石英试杆和玻璃基片对薄膜居里温度的确定引入了很大
的误差。提出了消除石英试杆和玻璃基片影响的三种方法。实验结果表明, 由三种方法消除石英
试杆和玻璃基片影响后所确定得到的磁光薄膜居里温度相对偏差小于5% 。因此, 三种消除石英
试杆和玻璃基片影响的方法是切实可行的。
石英试杆; 玻璃基片;直接重写磁光记录薄膜;居里温度; M ~T 曲线
: s
: TM 938.82:A
2
Mg
c2- c1= (2)
1 T T
tg
,
, ,
,
M ,
2
1 M T (H = 800kA /m)
max
sf
M
g c2 c 1
Mg , M , tg, T T
,
M
M= Msf + Mg + ( 1)
2
M T 1, Mg 2
(T) , ,
2
,
M T
, ( 1) ,
( ) ,
sf
M T ( 1)
Tc2,
,
c 1, ,
T
2 Msf = M- Mg - (3)
= g / c2- c1
tg M T T
:2000-05-15
2001年2 月
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