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磁控溅射法沉积TiO2低辐射膜及AFM分析

SEMICoNDUCTORoPTOELECTRoNICSV01.26No.5 Oct.2005 郑子尧1,王 柱1,李春领2,赵青楠2 (1.武汉大学物理科学与技术学院,湖北武汉430072;2.武汉理工大学。湖北武汉430072) 摘 要: 用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上,在不同氧分压条件下制备了一组TiO:低辐 射薄膜样品。用原子力显微镜(AFM)观察了不同制备条件下得到的TiO。薄膜样品的表面形貌, 并测量了它们的红外透过率,发现随着氧分压上升,薄膜晶粒长大,红外透射率降低。 关键词: 直流反应磁控溅射;低辐射膜;原子力显微镜 AFM on Low。E AnalysisTi02 ThinFilms DepositedbyMagnetronSputtering ZHENG Zhul,LI Zi—ya01,WANGChun-lin92,ZHAOQing—nan2 430072,CHN; (1.Dept.ofPhysics,WuhanUniversity,Wuhan 2.Wuhan of 430072,CHN) UniversityTechnology,Wuhan thinfilmswere on substrateDCreactive Abstract:Ti02 grownglass by magnetron atdifferent of thinfilms sputtering oxygenpartialpressure.ThemorphologyTi02 deposited undervarious conditions wereobserved AFM,and transmittance sputtering byusing optical of thinfilmswere resultsshowthatthe thinfilms spectraTi02 measured.The Ti02 deposited under the havethe andthelowerinfrared higheroxygenpressure biggercrystallites transmissivity. words:DCreactive Key films;AFM magnetronsputtering;low—emissivity 1 引言 我们使用直流反应磁控溅射制备TiO。薄膜。 磁控溅射具有制备工艺简单、成本低等优点,已成为 低辐射镀膜玻璃表面镀有一层低辐射膜。所谓 制备透明导电薄膜的主要方法之一。 低辐射膜指的是在可见光区高透射,在红外区高反 原子力显微镜(AFM)[33由于具有很高的空间 射的薄膜材料。低辐射膜大致有4种

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